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本发明提供一种反应腔室的预处理控制方法，其包括以下步骤：S1，预先配置并存储预处理条件表，预处理条件表内存储有预处理条件和与之一一对应的预处理配方；S2，获取反应腔室的当前条件参数，并在预处理条件表内查询与当前条件参数所符合的预处理条件相对...该专利属于北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司授权不得商用。