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本发明提供了晶圆净化装置、刻蚀机台及大马士革刻蚀方法，晶圆净化装置内设置用于装载晶圆的内腔和用于气体流通的外腔，通过机械泵的吸引力使内腔中的刻蚀后的晶圆上的刻蚀残留气体向排气通道平行流动，并经过排气通道沿外腔排出，从而可以避免刻蚀残留气体在...
该专利属于上海华力微电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华力微电子有限公司授权不得商用。

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