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一种超结沟槽金属氧化物半导体场效应管及其制造方法技术
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文档序号:10705859
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本发明公开一种超结沟槽金属氧化物半导体场效应管及其制造方法,一种具有短终端区长度的超结沟槽式金属氧化物半导体场效应管,其中,所述的终端区还包括一个沟道阻止区,其靠近外延层的上表面,有一个沟槽式终端接触区穿过该沟道组织区并延伸入所述的外延层。...
该专利属于力士科技股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过力士科技股份有限公司授权不得商用。
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