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本实用新型公开的一种研磨垫调节器，应用于化学机械研磨工艺中，该调节器包括：底板，底板内设有第一调节装置和第二调节装置；第一涡卷结构，第一涡卷结构设置于底板的一端，并与第一调节装置相连接以调节该第一涡卷结构的升降状态；第二涡卷结构，第二涡卷结...
该专利属于武汉新芯集成电路制造有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过武汉新芯集成电路制造有限公司授权不得商用。

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