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一种用于EUV辐射(14)的反射镜(20),包含总反射表面(24),该总反射表面具有第一EUV辐射反射区和至少一个第二EUV辐射反射区,其中所述EUV辐射反射区在结构上彼此定界开,所述第一区包含至少一个第一部分反射表面(22),所述第一部分...该专利属于卡尔蔡司SMT有限责任公司所有,仅供学习研究参考,未经过卡尔蔡司SMT有限责任公司授权不得商用。
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