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本发明公开了一种化学机械研磨后的清洗装置，包括兆声波水槽和水槽中设置的用于夹持并固定晶圆的滚筒，滚筒包括法兰形的第一滚筒部分和第二滚筒部分，二个滚筒部分通过其法兰形的法兰管部相互活动套接，在二个滚筒部分的法兰管套接面设有轴向移动导向结构，第...
该专利属于上海华力微电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华力微电子有限公司授权不得商用。

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