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本发明涉及一种多层堆积的金属遮光薄膜及其制备方法。本发明的金属遮光薄膜包括交替涂覆在器件晶圆上的至少一个金属铝薄膜和至少一个金属钨薄膜叠加形成；所述金属遮光薄膜的总厚度为2000～4000埃米。本发明的方法改变了现有金属遮光薄膜的结构，通过...
该专利属于武汉新芯集成电路制造有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过武汉新芯集成电路制造有限公司授权不得商用。

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