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本发明涉及一种具有纳米微腔结构的金属银薄膜的制备方法，选用金属银靶经直流溅射沉积系统，沉积在基片上，利用离子束刻蚀得到具有纳米微腔结构的金属银薄膜，此方法无需使用其他的辅助化学物质，不会引入新的杂质污染银薄膜微结构；与其它方法相比较，简便省...
该专利属于上海理工大学所有，仅供学习研究参考，未经过上海理工大学授权不得商用。

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