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本发明公开一种反应腔室，包括腔室、位于所述腔室内部的静电卡盘、内衬以及基座，所述基座用于支撑所述静电卡盘，所述内衬上设置有多个通风孔，所述基座包括支撑部分、连接部分以及安装部分，其中：所述支撑部分位于所述静电卡盘正下方并支撑所述静电卡盘；所...该专利属于北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司授权不得商用。