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本发明提供一种原位反应法制备石墨坩埚表面的SiC涂层的方法，包括如下步骤：将打磨好的涂层用石墨坩埚埋覆于发热用石墨坩埚内的硅粉中，得预反应物料；预反应物料放置在超音频感应加热炉中，在1300℃、惰性气体保护下反应60～90min。本发明利用...
该专利属于大连理工大学所有，仅供学习研究参考，未经过大连理工大学授权不得商用。

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