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精细线条制备方法技术
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文档序号:10018330
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本发明公开了一种精细线条制备方法,包括:在衬底上形成结构材料层和硬掩模层;在硬掩模层上形成电子束光刻胶,执行电子束曝光形成电子束光刻胶图形;以电子束光刻胶图形为掩模,刻蚀形成硬掩模图形;以硬掩模图形为掩模,刻蚀结构材料层,形成所需要的精细线...
该专利属于中国科学院微电子研究所所有,仅供学习研究参考,未经过中国科学院微电子研究所授权不得商用。
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