一种基于物料供应系统模型的工艺环境压力调度方法技术方案

一种基于物料供应系统模型的工艺环境压力调节方法，其包括根据物料供应系统特点建立传递函数反应模型；将进出舟阶段的反应腔室与微环境作为一个整体，形成组合腔室，引入参考输入偏差积分系统，建立增广状态状态方程；获取物料供应系统系统状态反馈控制律；通过物料供应系统的闭环特征方程式求得反馈控制律参数；根据微环境和反应腔室的压差，以及所述反馈控制律参数，对反应腔室与微环境作为一个整体进行同步调节流量控制机构，实现物料在进出舟阶段的压力稳定。因此，本发明专利技术将微环境调节模块接入真空泵环节，把进出舟阶段的反应腔室与微环境作为一个整体进行同步调节，进而通过物料压力环境的闭环状态方程，实现物料在进出舟阶段的压力稳定。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】一种基于物料供应系统模型的工艺环境压力调节方法，其包括根据物料供应系统特点建立传递函数反应模型；将进出舟阶段的反应腔室与微环境作为一个整体，形成组合腔室，引入参考输入偏差积分系统，建立增广状态状态方程；获取物料供应系统系统状态反馈控制律；通过物料供应系统的闭环特征方程式求得反馈控制律参数；根据微环境和反应腔室的压差，以及所述反馈控制律参数，对反应腔室与微环境作为一个整体进行同步调节流量控制机构，实现物料在进出舟阶段的压力稳定。因此，本专利技术将微环境调节模块接入真空泵环节，把进出舟阶段的反应腔室与微环境作为一个整体进行同步调节，进而通过物料压力环境的闭环状态方程，实现物料在进出舟阶段的压力稳定。【专利说明】
本专利技术涉及集成电路制造
，更具体地说，涉及。
技术介绍
低压化学气相沉积(Low Pressure Chemical Vapor Deposition,简称 LPCVD)是半导体工艺广泛采用的方法之一；它以装片容量大、粒子(Particle)污染小，均匀性(Uniformity)高、台阶覆盖性(Coverage over steps)好以及高产率本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：刘建涛，钟结实，王春洪，徐冬，
申请(专利权)人：北京七星华创电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：