一种曝光装置具备，配置在该曝光用光光路(K)周围的至少一部分，具有物体的上面隔着第1间隙(W1)对向、在与物体的上面之间保持液体(LQ)的第1面(310)的第1构件(30)；相对光路配置在第1面的外侧，具有物体的上面隔着第2间隙对向的第2面(61)的第2构件(60)；相对光路配置在第2面的外侧，用以供应流体(LB)的第1供应口(64)；以及配置在第1面与第2面之间，通过第2面与物体上面间的间隙(W2)吸引相对光路在第2构件外侧空间的气体(Ga)的至少一部分的第1吸引口(33)。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利摘要】一种曝光装置具备，配置在该曝光用光光路(K)周围的至少一部分，具有物体的上面隔着第1间隙(W1)对向、在与物体的上面之间保持液体(LQ)的第1面(310)的第1构件(30)；相对光路配置在第1面的外侧，具有物体的上面隔着第2间隙对向的第2面(61)的第2构件(60)；相对光路配置在第2面的外侧，用以供应流体(LB)的第1供应口(64)；以及配置在第1面与第2面之间，通过第2面与物体上面间的间隙(W2)吸引相对光路在第2构件外侧空间的气体(Ga)的至少一部分的第1吸引口(33)。【专利说明】
技术介绍
本专利技术关于一种曝光装置、液体保持方法、及元件制造方法。本申请案主张2011年8月25日申请的美国专利暂时申请61/527，333号、2012年7月9日申请的日本专利申请第2012-153959号及2012年8月23日申请的美国专利申请13/593,079号的优先权，并将其内容援用于此。关于用于光光刻技术中的曝光装置、液浸曝光装置，举例来说，已被揭露于美国专利申请公开第2009/0046261号中，其通过曝光用光经由液体以曝光一基板为已知的。
技术实现思路
液浸曝光装置中，例如当液体从既定空间流出时，即有可能发生曝光不良的情形。其结果，有可能产生不良元件。本专利技术各态样的目的，在提供一种能抑制曝光不良的发生的曝光装置及液体保持方法。又，本专利技术各态样的再一目的，在提供一种能抑制不良元件的产生的元件制造方法。根据本专利技术第I态样，其提供一种曝光装置，通过液体以曝光用光使基板曝光，具备:配置在曝光用光光路周围的至少一部分，具有物体的上面隔着第I间隙对向、在与物体的上面之间保持液体的第I面的第I构件；相对光路配置在第I面的外侧，具有物体的上面隔着第2间隙对向的第2面的第2构件；相对光路配置在第2面的外侧，用以供应流体的第I供应口 ；以及配置在第I面与第2面之间，通过第2面与物体上面间之间隙吸引相对光路在第2构件外侧空间的气体的至少一部分的第I吸引口。根据本专利技术第2态样，其提供一种曝光装置，通过第I液浸空间的第I液体以曝光用光使基板曝光，其具备:具有曝光用光射出的射出面的光学构件；配置在曝光用光光路周围的至少一部分，用以形成第I液体的第I液浸空间的第I液浸构件；以及相对光路配置在第I液浸构件的外侧，可与第I液浸空间分离形成第2液体的第2液浸空间的第2液浸构件；该第2液浸构件，具有:物体的上面隔着第I间隙对向、在与物体的上面之间保持液体的第I面；相对第I面的中心配置在第I面的外侧，物体的上面隔着第2间隙对向的第2面；相对第I面的中心配置在第2面的外侧，供应流体的第I供应口 ；以及配置在第I面与第2面之间，通过第2面与物体上面之间的间隙吸引第2面外侧空间的气体的至少一部分的第I吸引口。根据本专利技术第3态样，其提供一种元件制造方法，包含:使用第I或第2态样的曝光装置使基板曝光的动作；以及使曝光后的基板显影的动作。根据本专利技术第4态样，其提供一种液体保持方法，用于通过基板上的液体以曝光用光使基板曝光的曝光装置，包含:在配置于曝光用光光路周围的至少一部分、基板的上面隔着第I间隙对向的第I构件的第I面与基板的上面之间保持液体的动作；从相对光路配置在第I面外侧、物体的上面隔着第2间隙对向的第2构件的第2面外侧配置的第I供应口供应流体动作；以及从配置在第I面与第2面之间的第I吸引口，通过流过第2面的流体与基板上面之间的间隙吸引相对光路在第2构件外侧空间的气体的至少一部分的动作。根据本专利技术第5态样，其提供一种元件制造方法，包含:通过以第4态样的液体保持方法保持的液体的至少一部分使基板曝光的动作；以及使曝光后的基板显影的动作。根据本专利技术的上述态样，可抑制曝光不良的发生。此外，根据本专利技术的上述态样，可抑制不良元件的产生。【专利附图】【附图说明】图1为第I实施形态的曝光装置的概略构成图。图2为第I实施形态的曝光装置的部分示意图。图3为第2实施形态的曝光装置的部分示意图。图4为第3实施形态的曝光装置的部分示意图。图5为第3实施形态的曝光装置的部分示意图。图6是以示意方式显示第2构件周围的状态的一实施例的示意图。图7为第4实施形态的曝光装置的部分示意图。图8为第4实施形态的曝光装置的部分示意图。图9为第4实施形态的曝光装置的部分示意图。图10为第4实施形态的曝光装置的部分示意图。图11为基板载台的一实施例的示意图。图12为元件的一工艺流程图。附图标号说明:2 基板载台3 测量载台8 控制装置12终端光学元件30第I构件31 第 I 面33 回收口60第2构件61 第 2 面103腔室装置105环境控制装置EL曝光用光EX曝光装置P 基板【具体实施方式】以下，一边参照图式一边说明本专利技术的实施形态，但本专利技术并不限定于此。以下的说明中，设定一XYZ正交座标系，一边参照此XYZ正交座标系一边说明各部的位置关系。并设水平面内的既定方向为X轴方向、于水平面内与X轴方向正交的方向为Y轴方向、分别与X轴方向及Y轴方向正交的方向(亦即铅直方向)为Z轴方向。此外，设绕X轴、Y轴及Z轴旋转(倾斜)方向分别为ΘΧ、ΘΥ及ΘΖ方向。〈第I实施形态〉首先，说明第I实施形态。图1显示第I实施形态的曝光装置EX的一实施例的概略构成图。本实施形态的曝光装置EX通过液体LQ以曝光用光EL使基板P曝光的液浸曝光装置。本实施形态中，形成有将曝光用光EL的光路的至少一部分以液体LQ加以充满的液浸空间LS。液浸空间是被液体充满的部分(空间、区域)。基板P通过液浸空间LS的液体LQ以曝光用光EL加以曝光。本实施形态中，液体LQ使用水(纯水)。又，本实施形态的曝光装置EX，例如美国专利第6897963号说明书、欧洲专利公开第1713113号说明书等所揭示的具备基板载台与测量载台的曝光装置。图1中，曝光装置EX，具备:可保持掩膜M移动的掩膜载台1、可保持基板P移动的基板载台2、不保持基板P而可搭载测量曝光用光EL的测量构件及测量器移动的测量载台3、使掩膜载台I移动的驱动系统4、使基板载台2移动的驱动系统5、使测量载台3移动的驱动系统6、以曝光用光EL照明掩膜M的照明系IL、将经曝光用光EL照明的掩膜M的图案的像投影至基板P的投影光学系PL、配置在曝光用光EL的光路周围至少一部分并具有物体的上面隔着第I间隙对向且在与物体的上面之间保持液体LQ的第I面31的第I构件30、相对曝光用光EL的光路配置在第I面31的外侧且具有物体的上面隔着第2间隙对向的第2面61的第2构件60、测量掩膜载台1、基板载台2及测量载台3的位置的测量系统11、控制曝光装置EX全体的动作的控制装置8、以及连接于控制装置8用以储存与曝光相关的各种信息的存储装置8R。存储装置8R，包含例如RAM等的存储器、硬盘、⑶一 ROM等记录媒体。于存储装置8R安装有用以控制电脑系统的作业系统(OS)，内储存有用以控制曝光装置EX的程序。掩膜M包含形成有待投影至基板P的元件图案的标线片(reticle)。掩膜M包含透射型掩膜，此种透射型掩膜具有例如玻璃板等透明板、与在该透明板上使用铬等遮光材料形成的图案。又，掩膜M亦可使用反射型掩膜。基板P用以制造元件的基板。基板P包含例如半导体晶片等的基材与该基材上形成的感光膜。感光膜是感光本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种曝光装置，其特征在于，通过液体以曝光用光使基板曝光，具备：第1构件，配置在所述曝光用光光路周围的至少一部分，具有物体的上面隔着第1间隙对向、在与所述物体的上面之间保持所述液体的第1面；第2构件，相对所述光路配置在所述第1面的外侧，具有所述物体的上面隔着第2间隙对向的第2面；第1供应口，相对所述光路配置在所述第2面的外侧，用以供应流体；以及第1吸引口，配置在所述第1面与所述第2面之间，通过所述第2面与所述物体上面之间的间隙吸引相对所述光路在所述第2构件外侧空间的气体的至少一部分。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：长坂博之，
申请(专利权)人：株式会社尼康，
类型：发明
国别省市：日本;JP
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