对流体和气体进行间接磁处理的方法和设备技术

提供了对流体/气体进行间接磁处理的方法和设备，其中在第一步骤中，向工作流体/气体施加具有特定的维度、几何形貌和通量密度的磁场或者电磁场，以得到直接磁化的流体/气体。然后在第二步骤中，直接磁化的流体/气体用作磁化剂或磁处理剂对正常、非磁化的流体/气体进行间接磁化，该间接磁化是通过以所述直接磁化的流体/气体与正常、非磁化的工作流体/气体之间预定的混合比和混合方法，混合直接磁化的流体/气体与正常、非磁化的流体/气体来实现的。之后，所得到的混合或间接磁化的流体/气体直接用于适当的应用中或者储存在储存罐中以待后用。本发明专利技术的可能的应用包括但不限于，对流体/气体进行直接磁处理的所有现有应用，例如水处理、烃类燃料处理。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】【专利摘要】提供了对流体/气体进行间接磁处理的方法和设备，其中在第一步骤中，向工作流体/气体施加具有特定的维度、几何形貌和通量密度的磁场或者电磁场，以得到直接磁化的流体/气体。然后在第二步骤中，直接磁化的流体/气体用作磁化剂或磁处理剂对正常、非磁化的流体/气体进行间接磁化，该间接磁化是通过以所述直接磁化的流体/气体与正常、非磁化的工作流体/气体之间预定的混合比和混合方法，混合直接磁化的流体/气体与正常、非磁化的流体/气体来实现的。之后，所得到的混合或间接磁化的流体/气体直接用于适当的应用中或者储存在储存罐中以待后用。本专利技术的可能的应用包括但不限于，对流体/气体进行直接磁处理的所有现有应用，例如水处理、烃类燃料处理。【专利说明】对流体和气体进行间接磁处理的方法和设备
本专利技术一般地属于流体和/或气体的磁处理领域，更具体地是对流体和气体进行间接磁处理的方法和设备，其主要基于直接磁化的流体/气体(采用具有特定几何形貌和通量密度的直接磁场或电磁场处理的流体/气体)与正常非磁化的流体/气体之间的混合，以得到新的混合或间接磁化的流体/气体，所述新的混合或间接磁化的流体/气体具有比直接磁化的流体/气体以及正常非磁化的流体/气体更好的性能。专利技术背景磁流动力学(MHD)(磁流体动力学或水磁动力学)是研究导电流体在磁场作用下的动力学的科学学科。MHD中的M指的是磁场，H指的是液体，D指的是移动或运动。HannesAlfven在1942年开创了 MHD领域，他为此得到了 1970年的诺贝尔物理学奖。MHD的理念是磁场会在移动的导电流体中引起电流，这会对流体产生机械作用力，还会改变磁场本身。描述MHD的一组方程是熟悉的流体动力学的纳维-斯托克斯(Navier-Stokes)方程和电磁场麦克斯韦方程的组合。研究指出磁流动力作用可用于流体和气体的磁处理。流体和气体的磁处理的所有先前的应用聚焦于向移动的流体或气体直接施加各种通量密度和可 变几何形貌的磁场或电磁场，其中全部或全体流体或气体应该直接通过磁场或电磁场，从而进行处理。该直接处理实际上是限制磁处理流行起来的潜在障碍，因为这导致仅在安装磁处理装置的初始阶段具有有效处理，而在之后的阶段通常为无效处理。
技术实现思路
因此，本专利技术的一个目的是提供一种对流体和气体进行间接磁处理的方法和设备，其克服了流体和气体的直接磁处理的缺陷。提供了对流体或气体进行间接处理的方法，所述方法包括:提供第一流体或气体；对于所述第一流体或气体施加具有特定通量密度和几何形貌的直接磁场或电磁场，得到直接磁化的流体/气体；提供第二正常、非磁化的流体/气体；将第一直接磁化的流体/气体与第二正常、非磁化的流体/气体混合，以得到第三混合或间接磁化的流体/气体，该第三混合或间接磁化的流体/气体也经过处理，并且比第一直接磁化的流体/气体和第二正常、非磁化的流体/气体更有效。这表示，根据本专利技术，第一流体/气体是经过直接磁处理或电磁处理的直接磁化的流体/气体，而第二流体/气体是未通过任意直接磁场或电磁场的正常、非磁化的流体/气体。在第三混合或间接磁化的流体/气体中，第二正常、非磁化的流体/气体受到第一直接磁化的流体/气体的间接处理，第三混合或间接磁化的流体/气体以间接的方式受到完全处理。也就是说，第一直接磁化的流体/气体起了磁化剂或磁处理剂的作用，对第二正常、非磁化的流体/气体进行磁化。在本专利技术的意思中，涉及流体和/或气体的术语“直接磁化”或“直接处理”或者简称的“处理”，具体表示利用具有特定几何形貌和通量密度的直接磁场或电磁场分别对流体和/或气体进行处理或磁化，所述磁场或电磁场可以由，例如分别产生所述磁场或电磁场的装置或单元提供。此外，涉及流体和/或气体的术语“正常、非磁化的”或“正常”分别具体地表示各个流体和/或气体未被磁化或者未经过任意直接的磁场或电磁场。此外，涉及流体和/或气体的术语“混合”或“间接磁化”具体表示通过起了磁化剂或磁处理剂的作用的直接磁化流体/气体，以间接的方式进行磁处理的流体和/或气体。除此之外，术语“间接磁流体/气体处理”具体表示分别对正常流体和/或气体进行处理或磁化，它们不是直接磁场或电磁场的目标(这是对于“直接磁化”的流体和/或气体的情况)，而是通过“直接磁化”的流体和/或气体进行磁化(例如与其混合从而磁化)。优选地，第一直接磁化的流体/气体与第二正常、非磁化的流体/气体之间的混合是根据预定的混合比进行的，其中大部分的混合物是第二正常、非磁化的流体/气体。优选地，用于产生直接磁化流体/气体的处理单元可以是永磁体装置或者采用线圈和受控电源的电磁装置。处理单元中的磁场或电磁场可以是任意几何形貌(一维、二维或三维磁场，取决于所需的通量密度值Bx、By和Bz);磁场的性质可以是相吸形式或相斥形式(在永磁体装置的情况下)；磁场与流体/气体流动方向之间的角度可以是任意角度，如90、O、180度，或者任意其他所需的角度。优选地，当流体/气体循环时，在处理单元中，对直接磁化的流体/气体进行施加具有特定通量密度和几何形貌的磁场或电磁场的过程。优选地，可以使用“直列式预处理和后处理传感器配置”来实现直接磁化的流体/气体的生产过程，所述“直列式预处理和后处理传感器配置”包括:首先，从正常流体主供给罐将正常、非磁化的流体/气体填充到处理容器中；以及接着，进行受控制的流动通过处理单元的循环过程，该循环过程输出其流体回到处理容器。在该配置中，在处理单元之前和之后安装一组所需的传感器(其可以是取决于应用和流体的)，所述传感器将其传感数据传输至控制盒，从而出于分析目的，追踪在处理单元之前和之后的直接磁化的流体/气体的物理量和化学量随时间的变化。或者，也可以使用“罐内传感器配置”来实现直接磁化的流体/气体的生产过程，所述“罐内传感器配置”包括:首先，从正常流体主供给罐将正常、非磁化的流体/气体填充到处理容器中；以及接着，进行受控制的流动通过处理单元的循环过程，该循环过程输出其流体回到处理容器。在该配置中，在处理容器内安装一组所需的传感器(其可以是取决于应用和流体的)，所述传感器将其传感数据传输至控制盒，从而对于处理罐中的流体/气体，追踪直接磁化的流体/气体的物理量和化学量随时间的变化。或者，也可以使用“并行流动配置”来实现直接磁化的流体/气体的生产过程，所述“并行流动配置”包括:首先，从正常流体主供给罐将正常、非磁化的流体/气体填充到处理容器中；以及接着，进行受控制的流动的循环过程，其中处理容器同时接收通过处理单元的第一受控流和直接来自处理容器的第二受控流。或者，也可以使用“单循环配置”来实现直接磁化的流体/气体的生产过程，所述“单循环配置”包括:首先，从正常流体主供给罐将正常、非磁化的流体/气体填充到正常流体容器中；以及接着，进行向第二处理容器的受控制的流动，所述第二处理容器接收通过处理单元的受控制的流体。优选地，可以采用底部配置来实现混合过程，其包括:首先，使得第一直接磁化的流体/气体沉积到混合容器的底部；以及接着，使得第二正常、非磁化的流体/气体沉积到所述第一直接磁化的流体/气体的顶部上。该过程也可以重复多次(交替底部配置)。或者，也可以采用顶部配置来实现混合过程，其包括:首先，使得第二正常、非磁化的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种对流体和/或气体进行间接磁处理的方法，所述方法包括：a.提供正常、非磁化的流体/气体，对所述正常的流体/气体施加具有特定通量密度和几何形貌的直接磁场或电磁场，以得到第一直接磁化的流体/气体；b.提供第二正常、非磁化的流体/气体；以及c.混合所述第一直接磁化的流体/气体和第二正常、非磁化的流体/气体，以得到第三混合或间接磁化的流体/气体，该第三混合或间接磁化的流体/气体也经过磁处理，并且比第一直接磁化的流体/气体和第二正常、非磁化的流体/气体更有效。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：Z·阿波哈默尔，
申请(专利权)人：环境和水质能源专业处理有限公司，
类型：发明
国别省市：约旦;JO