一种LED表面粗化芯片制造技术

技术编号:9864115 阅读:81 留言:0更新日期:2014-04-02 20:44
本实用新型专利技术公开了一种LED表面粗化芯片,所述LED芯片包括衬底以及成形在所述衬底上的外延层,所述外延层依次包括n-GaN层、发光层和p-GaN层;所述p-GaN层上成形有透明导电层;以及分别成形在所述n-GaN层和所述透明导电层上的n型电极和p型电极,其中,所述p-GaN层表面设有多个粗化图形;所述透明导电层设有多个开孔图形,所述全部或部分粗化图形暴露在该开孔图形中;本实用新型专利技术即可有效减少或避免全反射现象,进而提高LED芯片的出光效率,又可同时避免产生透明导电层与p-GaN层之间的欧姆接触问题,进而确保LED芯片的电流注入效率,最终有效确保LED芯片的转换效率得到提高。(*该技术在2023年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种LED表面粗化芯片,所述LED芯片包括衬底以及成形在所述衬底上的外延层,所述外延层依次包括n‑GaN层、发光层和p‑GaN层;所述p‑GaN层上成形有透明导电层;以及分别成形在所述n‑GaN层和所述透明导电层上的n型电极和p型电极,其特征在于,所述p‑GaN层表面设有多个粗化图形;所述透明导电层设有多个开孔图形,所述全部或部分粗化图形暴露在该开孔图形中。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:吴飞翔陈家洛陈立人余长治
申请(专利权)人:聚灿光电科技苏州有限公司
类型:新型
国别省市:江苏;32

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