【技术实现步骤摘要】
一种用于总义齿和局部义齿颌记录的基托型蜡
:本专利技术专利涉及一种口腔修复医疗器械制作时用的器材，即一种制作全口义齿和局部义齿时采集颌记录用的型蜡。
技术介绍
:目前，牙医在为患者采集全口或局部义齿颌记录前，均是在取得患者口腔的石膏模型上用蜡板和蜡片弯制成蜡基托和蜡堤，这样制作的颌记录蜡型既费时费力，又不能把患者的口腔生理信息记录准确，从而易使后期制作的义齿存在偏差，造成患者配戴不适，甚至失败。
技术实现思路
: 本专利技术的目的就在于克服上述现有技术中存在的不足，而提供一种用于总义齿和局部义齿颌记录的基托型蜡，使用该型蜡可使临床采集颌记录操作简单，取得的颌记录信息准确全面，从而使后期制作的修复义齿更精确，配戴舒适而美观。如上构思，本专利技术的技术方案是:一种用于总义齿和局部义齿颌记录的基托型蜡，由上颌基托型蜡、下颌基托型蜡、上颌蜡堤和下颌蜡堤组成；上颌基托型蜡和下颌基托型蜡均是按人类口腔解剖形态制成的弓槽形结构，上颌蜡堤和下颌蜡堤均是按人类牙列生理解剖形态制成的弓形结构，其特征在于:上颌蜡堤和下颌蜡堤的咬合面具有舌颊向和唇颚向横槽或多个锥形齿。上述上颌基托型蜡和下颌基托型蜡咬合面一侧为平面，另一侧面为槽形。上述上颌蜡堤和下颌蜡堤均为前窄后宽的弓形结构。上述上颌蜡堤和下颌蜡堤的唇、颊侧和舌侧间具有多排横向贯通的孔。本专利技术具有如下的优点和积极效果:1、由于将上颌基托型蜡和下颌基托型蜡预制成依据人类口腔解剖生理特点的弓形槽形态，在临床使用时牙科医生只需要稍加整理就能使其贴合在患者的口腔模型上，从而可取到患者颌位准确的颌记录。2、由于将上颌蜡堤和下颌...
【技术保护点】
一种用于总义齿和局部义齿颌记录的基托型蜡，由上颌基托型蜡、下颌基托型蜡、上颌蜡堤和下颌蜡堤组成；上颌基托型蜡和下颌基托型蜡均是按人类口腔解剖形态制成的弓槽形结构，上颌蜡堤和下颌蜡堤均是按人类牙列生理解剖形态制成的弓形结构,其特征在于：上颌蜡堤和下颌蜡堤的咬合面具有舌颊向和唇颚向横槽或多个锥形齿。
【技术特征摘要】
1.一种用于总义齿和局部义齿颌记录的基托型蜡，由上颌基托型蜡、下颌基托型蜡、上颌蜡堤和下颌蜡堤组成；上颌基托型蜡和下颌基托型蜡均是按人类口腔解剖形态制成的弓槽形结构，上颌蜡堤和下颌蜡堤均是按人类牙列生理解剖形态制成的弓形结构，其特征在于:上颌蜡堤和下颌蜡堤的咬合面具有舌颊向和唇颚向横槽或多个锥形齿。2.根据权利要求1所述的一种用于总义齿和局部义齿颌记录的...
【专利技术属性】
技术研发人员：邢旭东，
申请(专利权)人：天津天行健齿科器材有限公司，
类型：发明
国别省市：
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