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一种混合磨料碱性蓝宝石衬底材料CMP抛光液及其制备方法技术

技术编号:9661871 阅读:110 留言:0更新日期:2014-02-13 12:24
本发明专利技术涉及一种混合磨料碱性蓝宝石衬底材料CMP抛光液及其制备方法,CMP抛光液由以下重量百分比的组分组成:0.5-35%的主磨料、0.015-0.09%的辅助磨料、0.005-0.05%的螯合剂、0.005-0.05%的表面活性剂、0.01-0.5%的pH调节剂,余量为去离子水;所述主磨料为纳米SiO2溶胶,所述辅助磨料为Al2O3溶胶;按顺序在纳米硅溶胶悬浮液中加入辅助磨料、螯合剂、表面活性剂、碱性pH调节剂。抛光液中由于主磨料SiO2溶胶的含量减少,减小了CMP后衬底表面抛光液残留较严重的现象,利于后续清洗,少量辅助磨料A12O3的加入使得使得抛光速率明显增加,并使CMP后粗糙度降低。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术涉及一种混合磨料碱性蓝宝石衬底材料CMP抛光液及其制备方法,CMP抛光液由以下重量百分比的组分组成:0.5-35%的主磨料、0.015-0.09%的辅助磨料、0.005-0.05%的螯合剂、0.005-0.05%的表面活性剂、0.01-0.5%的pH调节剂,余量为去离子水;所述主磨料为纳米SiO2溶胶,所述辅助磨料为Al2O3溶胶;按顺序在纳米硅溶胶悬浮液中加入辅助磨料、螯合剂、表面活性剂、碱性pH调节剂。抛光液中由于主磨料SiO2溶胶的含量减少,减小了CMP后衬底表面抛光液残留较严重的现象,利于后续清洗,少量辅助磨料A12O3的加入使得使得抛光速率明显增加,并使CMP后粗糙度降低。【专利说明】一种混合磨料碱性蓝宝石衬底材料CMP抛光液及其制备方法
本专利技术涉及抛光液,尤其涉及一种提升去除速率、改善表面质量的混合磨料碱性蓝宝石衬底材料CMP抛光液及其制备方法。
技术介绍
蓝宝石单晶(Sapphire),又称白宝石,分子式为Al2O3,透明,与天然宝石具有相同的光学特性和力学性能,有着很好的热特性,极好的电气特性和介电特性,并且防化学腐蚀,对红外线透过率高,有很好的耐磨性,硬度仅次于金刚石,达莫氏9级,在高温下仍具有较好的稳定性,熔点为2030°C,所以被广泛应用于工业、国防、科研等领域,越来越多地用作固体激光、红外窗口、半导体芯片的衬底片、精密耐磨轴承等高
中零件的制造材料。随着节能减排及绿色能源的提出,作为制作发光器件衬底的蓝宝石晶片加工成为人们研究的焦点。作为继S1、GaAs之后的第三代半导体材料的GaN,其在器件上的应用被视为20世纪90年代后半导体最重大的事件,它使半导体发光二极管与激光器上了一个新台阶,由于GaN很难制备体材料,必须在其它衬底材料上生长薄膜,作为GaN的衬底材料有多种,包括蓝宝石、碳化硅、硅、氧化镁、氧化锌等,其中蓝宝石是最主要的衬底材料,目前已能在蓝宝石上外延出高质量的GaN 材料,并已研制出GaN基蓝色发光二极管及激光二极管。蓝宝石由于其硬度高且脆性大,机械加工困难。而蓝宝石衬底是目前最为普遍的一种衬底材料,作为衬底材料对晶体表面提出了超光滑的要求。研究表明器件的质量很大程度上依赖于衬底的表面加工。尤其对用于GaN生长的蓝宝石衬底片精密加工技术更加复杂,是目前重点研究的难题。随着光电技术的飞速发展,光电产品对蓝宝石衬底材料需求量的日益增加,为了满足蓝宝石光学器件发展的需求,蓝宝石化学机械抛光(Chemical-Mechanical Polishing,简称CMP)的机理及技术成为急待解决的重要问题。作为抛光技术之一的抛光液制备方法尤其重要。如传统的复配及机械搅拌等制备方法容易造成有机物、金属离子、大颗粒等有害污染。从而造成后续加工中成本的提高及器件成品率的降低。在CMP过程中硅溶胶与蓝宝石衬底存在如下化学反应:Al203+Si02 — Al2SiO3 碱性条件下,Al2O3与碱作用生成A102_的蓝宝石衬底表面会持续形成厚度为Inm左右的水合层,此水合层成分水铝石,化学式Al2O3.ηΗ20,莫氏硬度小于蓝宝石,约为7,CMP是一个化学作用与机械作用相互加强和促进的过程,其化学作用生成的八102_易溶于水,易去除,Al2SiO3难溶于水,如果机械作用过低,此产物难以移除,而水合层的存在会阻断抛光液与衬底的再接触,这两种产物如果不及时移除将影响到化学反应的再进行,最终导致去除速率偏低。中国专利【专利技术者】郑伟艳, 曾锡强 申请人:曾锡强本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种混合磨料碱性蓝宝石衬底材料CMP抛光液,其特征在于,所述CMP抛光液由以下重量百分比的组分组成:0.5?35%的主磨料、0.015?0.09%的辅助磨料、0.005?0.05%的螯合剂、0.005?0.05%的表面活性剂、0.01?0.5%的pH调节剂,余量为去离子水;所述主磨料为纳米SiO2溶胶,所述辅助磨料为Al2O3溶胶。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:郑伟艳曾锡强
申请(专利权)人:曾锡强
类型:发明
国别省市:

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