【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种POSS基高发射率纳米涂层的制备方法,其特征在于该方法按以下步骤进行:一、按重量份数比称取10份硅烷偶联剂JH?50、9~10份的乙醇与3~4份的乙酸和1~2份甲酸;先将乙醇和乙酸混合均匀,然后加入到硅烷偶联剂JH?50中,再加入甲酸,搅拌均匀后,密封,放在温度为30~35℃的水浴中水解反应7~8天,得到POSS溶胶;二、以乙醇为溶剂配制硼酸的乙醇溶液,其中硼酸的质量百分浓度为10%~15%;再按硼酸的乙醇溶液与POSS溶胶的质量比为18~20:1将硼酸的乙醇溶液与POSS溶胶混合,得到硼酸?POSS溶液;三、按重量份数比称取10份的耐高温基料和2~4份的添加剂,其中耐高温基料为二硅化钼、碳化硅、氧化锆、氧化硅中的一种或其中几种的组合,添加剂为氧化铝,混合均匀后,得到粉料;四、将粉料和无水乙醇加入行星式球磨机中湿磨8~10小时,得到纳米浆料;五、按纳米浆料与硼酸?POSS溶液的质量比为8~10:1将步骤四得到的纳米浆料与步骤二得到的硼酸?POSS溶液混合均匀,得到涂料;六、将耐火材料基体表面涂覆步骤二得到的硼酸?POSS溶液,在20~30℃的条件下干燥30~40min,再升温至70 ...
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:张兴文,黄希,贾赫男,邢东,
申请(专利权)人:哈尔滨工业大学,
类型:发明
国别省市:
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