双行程运动式磨抛装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种双行程运动式磨抛装置，包括机架(1)、磨抛组件(2)，在机架上、并在磨抛组件的两下部处装有凸轮(5)，在该凸轮之间内通过膨胀套(6)而套有凸轮轴(7)，所述凸轮轴的一端通过中间传动组件(8)与动力源(9)相连。所述凸轮轴的另一端上装有凸轮光电组件(10)，该凸轮光电组件能感应凸轮的运动。本发明专利技术凸轮轴旋转而带动两凸轮同步转动，从而推动磨抛组件作斜边直线运动。当凸轮转到某点时，磨抛组件到达一高度、一角度，则凸轮光电组件发出信号，动力源停止工作，由磨抛组件对物件进行磨抛。其行程能得到准确控制、精度较高，工作平稳可靠，操作自动化高，提高了工作效率和加工质量，降低了生产成本。

Double stroke motion grinding and throwing device

The invention discloses a double stroke type grinding and polishing device, which comprises a frame (1), polishing components (2), on the frame, and a cam two in the lower part of the polishing component (5), the expansion sleeve between the inner cam (6) and a camshaft (7), one end of the cam shaft through the intermediate drive assembly (8) and (9) connected to the power source. The other end of the camshaft is provided with a cam photoelectric assembly (10), which can induce the motion of the cam. The cam shaft of the invention drives the two cams to rotate synchronously so as to push the grinding and polishing components to move in a straight line with a bevel edge. When the cam moves to a certain point, the grinding and polishing assembly reaches a height and an angle, then the cam photoelectric component sends out a signal, the power source stops working, and the object is polished and thrown by the grinding and throwing assembly. The utility model has the advantages of accurate control, high precision, stable and reliable operation, high automatic operation, improved work efficiency and processing quality, and reduced production cost.

【技术实现步骤摘要】
双行程运动式磨抛装置
本专利技术涉及一种水钻磨抛机，具体是涉及一种应用于水钻磨抛机的磨抛装置。
技术介绍
目前，全自动水钻磨抛机一般为无人组水钻加工方式，主要加工水钻品、服饰、工艺品、首饰等物件，其磨抛装置的高度、角度位置的变化由气缸带动，其行程难以准确控制、精度较差，且气缸工作冲击力较大，不利于水钻物件的加工，从而影响了水钻物件的加工质量。
技术实现思路
本专利技术的目的在于克服上述的不足，而提供一种能准确控制磨抛组件的高度、角度位置以有利于物件加工的双行程运动式磨抛装置。本专利技术的目的通过如下技术方案来实现:双行程运动式磨抛装置，包括机架、磨抛组件，在所述机架上、并在磨抛组件的两下部处装有凸轮，在该凸轮之间内通过膨胀套而套有凸轮轴，所述凸轮轴的一端通过中间传动组件与动力源相连。所述凸轮轴的另一端上装有凸轮光电组件，该凸轮光电组件能感应着凸轮的运动。采用本专利技术结构后，凸轮轴旋转而带动两凸轮同步转动，从而推动磨抛组件作斜边直线运动。当凸轮转到某点时，磨抛组件到达一高度、一角度时，则凸轮光电组件发出信号，动力源停止工作，由磨抛组件对物件进行磨抛。其行程能得到准确控制、精度本文档来自技高网...

【技术保护点】
双行程运动式磨抛装置，包括机架(1)、磨抛组件(2)，其特征在于：在所述机架(1)上、并在磨抛组件(2)的两下部处装有凸轮(5)，在该凸轮之间内通过膨胀套(6)而套有凸轮轴(7)，所述凸轮轴(7)的一端通过中间传动组件(8)与动力源(9)相连。

【技术特征摘要】
1.双行程运动式磨抛装置，包括机架(I)、磨抛组件(2)，其特征在于:在所述机架(I)上、并在磨抛组件(2)的两下部处装有凸轮(5)，在该凸轮之间内通过膨胀套(6)而套有凸轮轴(7)，所述凸轮轴(7)的一端通过中间传动组件(8)与动力源(9)相连。2.根据权利要求1所述的双行程运动式磨抛装置，其特征在于:所述凸轮轴(7)的另一端上装有凸轮光电组件(10)，该凸轮光电组件能感应着凸...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴仕飞，孙建伟，虞臣昌，林立铭，王克求，
申请(专利权)人：浙江正威机械有限公司，
类型：发明
国别省市：