二维周期滤色光栅制造技术

本发明专利技术涉及一种二维周期滤色光栅，它有连贯的高折射率的，尤其金属的，定义光栅平面的底层(3)，以及在底层(3)上面有由一个个高折射率的，尤其金属的面元件(5)组成的二维规则图样(6)，面元件(5)分别平行于光栅平面延伸以及分别通过中间电介质(4)与底层(3)间隔距离(h)，这一距离大于底层(3)和面元件(5)的厚度，其中，规则图样(6)沿至少两个平行于光栅平面延伸的方向有周期(p1、p2)在100nm与800nm之间，优选地在200nm与500nm之间。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】二维周期滤色光栅本专利技术涉及一种二维周期滤色光栅。例如由DE102009012299A1、DE102009012300A1或DE102009056933A1已知用作有价证券的安全元件或防伪元件的一维周期光栅。当光栅型面设计为出现在可见光波长范围内的谐振效应时，它们可以有在子波长范围内的滤色特性。这种滤色特性已知不仅用于反射的子波长结构，而且已知用于透射的子波长结构。这些结构对于射入光束的反射或透射有强的极化影响。当入射光未极化时，明显减弱所述光栅的色饱和。此外，在这种子波长光栅的反射或透射时，颜色与角度有比较大的关系。在一些科学文献中介绍了二维周期孔结构，它们在子波长范围有入射光的过滤特性。为此可参见下列原始文献:T.W.Ebbesenj H.J.Lezecj H.F.Ghaemij T.Thioj andP.A.Wolf,,, Extraordinary optical transmission through sub-wavelength holearrays “，Nature, 667-669 (1998) ; L.Martin-Morenoj F.J.Garcia-Vidal本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种二维周期滤色光栅，它有连贯的高折射率的，尤其金属的，定义光栅平面的底层(3)，以及在底层(3)上面有由一个个高折射率的，尤其金属的面元件(5)组成的二维规则图样(6)，面元件(5)分别平行于光栅平面延伸以及分别通过中间电介质(4)与底层(3)间隔距离(h)，这一距离大于底层(3)和面元件(5)的厚度，其中，规则图样(6)沿至少两个平行于光栅平面延伸的方向有在100nm与800nm之间，优选地在200nm与500nm之间的周期(p1、p2)。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2011.05.16 DE 102011101635.31.一种二维周期滤色光栅，它有连贯的高折射率的，尤其金属的，定义光栅平面的底层(3)，以及在底层(3)上面有由一个个高折射率的，尤其金属的面元件(5)组成的二维规则图样(6)，面元件(5)分别平行于光栅平面延伸以及分别通过中间电介质(4)与底层(3)间隔距离(h)，这一距离大于底层(3)和面元件(5)的厚度，其中，规则图样(6)沿至少两个平行于光栅平面延伸的方向有在IOOnm与800nm之间，优选地在200nm与500nm之间的周期(P1、P2)。2.按照权利要求1所述的光栅，其中，在每一个面元件(5)下面的底层(3)有一个孔⑶。3.按照权利要求1或2所述的光栅，其中，底层(3)和面元件(5)包括一种材料，它含有:A1, Ag，Cu，Cr, Si，Zn，Ti，Pt，Pd，Ta 和它们的合金。4.按照上述权利要求之一所述的光栅，其中，在每一个面元件(5)下面...

【专利技术属性】
技术研发人员：H洛赫比勒，M海姆，
申请(专利权)人：德国捷德有限公司，
类型：
国别省市：