姿势检测和识别制造技术

本发明专利技术涉及姿势检测和识别。描述了在传感器的视场中追踪和识别所执行的姿势的技术。在一个或多个实施方式中，该技术可以被实施在电子设备中，该电子设备被配置为响应于传感器检测到在传感器视场中发生的姿势，从传感器接收信号。透镜位于传感器上方，以准直入射在透镜上的光，并将准直光传递到传感器。该电子设备被配置为基于该信号生成一个或多个光强度比。该电子设备接着被配置为基于一个或多个光强度比，确定所执行的姿势类型。

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术涉及姿势检测和识别。描述了在传感器的视场中追踪和识别所执行的姿势的技术。在一个或多个实施方式中，该技术可以被实施在电子设备中，该电子设备被配置为响应于传感器检测到在传感器视场中发生的姿势，从传感器接收信号。透镜位于传感器上方，以准直入射在透镜上的光，并将准直光传递到传感器。该电子设备被配置为基于该信号生成一个或多个光强度比。该电子设备接着被配置为基于一个或多个光强度比，确定所执行的姿势类型。【专利说明】姿势检测和识别
本专利技术涉及姿势检测和识别。
技术介绍
姿势检测和识别可以被用于为电子设备提供新颖的且更加直观的人机接口(HMI)。姿势识别的目标是通过数学算法解释人类姿势。通常来说，姿势可以来源于任意的身体移动或状态，但是更通常是来自用户的面部或手部，例如，采取手势的方式。姿势识别通常看上去是一种电子设备开始理解人类身体语言的方式，从而在机器和人类之间提供了一种与基于文本的接口和图形用户接口(GUI)相比更加方便和/或直观的接口，所述电子设备例如是计算机、手写板、智能电话等等，基于文本的接口和图形用户接口通常将大多数电子设备输入限制为键盘、鼠标，还有可能是触摸板或触摸屏。因此，姿势检测和识别可以使人类更加自然地与机器交互，而不需要使用机械输入设备。
技术实现思路
描述了在传感器视场中追踪和识别执行的姿势的技术。在一个或多个实施方式中，该技术可以被实施在电子设备中，该电子设备被配置为响应于检测在传感器视场中发生的姿势的传感器，而处理来自传感器的信号。透镜位于传感器上方，以准直入射在透镜上的光，以及将准直光传递到传感器。电子设备被配置为基于该信号生成一个或多个光强度比。电子设备接着被配置为基于一个或多个光强度比，来确定所执行的姿势的类型。提供本
技术实现思路
部分仅仅是弓I入主题，该主题在【具体实施方式】部分和附图中进行了完全地描述。因此，
技术实现思路
部分不应被认为描述基本特征，或者被用于确定权利要求的范围。【专利附图】【附图说明】参考附图描述【具体实施方式】部分。在附图中，附图标记的最左边的数字确定了该附图标记首次出现的附图。在说明书和附图中的不同实例中可以使用相同的附图标记表示类似或相同的项目。图1A是根据本公开内容的示例性实施方式的以2X2光电二极管阵列布置的四个光电二极管的平面图的示意图。图1B是图1中所示的光电二极管阵列的侧视图的示意图。图1C是根据本公开内容的示例性实施方式的以4X4光电二极管阵列布置的多个光电二极管阵列的等距视图的示意图。图2A是根据本公开内容的示例性实施方式的以2X2光电二极管阵列布置的四个光电二极管的等距视图的示意图，其中各种位置被示为邻近相应的光电二极管，以示出在光电二极管阵列的视场中执行的圆形姿势。图2B是示出了当光电二极管阵列检测到圆形姿势时，图2A中示出的四个光电二极管的生成的阵列响应。图2C是示出了关于图2A中所示的光电二极管阵列的中央的位置信息的圆形。图2D是示出了当对角挥击姿势被光电二极管阵列检测到时，图1中所示的四个光电二极管的响应的曲线图，其中对角挥击姿势通常从光电二极管“A”对角执行到光电二极管 “D”。图2E是示出了当对角挥击姿势被光电二极管阵列检测到时，图1中所示的四个光电二极管的响应的曲线图，其中对角挥击姿势通常从光电二极管“B”对角执行到光电二极管 “C”。图3是示出了根据本公开内容的示例性实施方式的可以被配置为追踪和识别姿势的电子设备的框图。图4是示出了根据本公开内容的示例性实施方式的用于识别姿势的方法的流程图。【具体实施方式】概述姿势检测越来越多地被电子设备用来检测用户输入，以用于与电子设备相关的各种应用。这种电子设备通常具有传感器配置，所述传感器配置采用大量光电二极管来改善姿势检测的范围和操作(例如，降噪)。这些传感器配置还可以提供对复杂姿势的有限追踪和检测(例如，圆形姿势、对角挥击姿势，等等)。因此，描述了一种用于在传感器的视场中追踪和识别所执行姿势的技术。在一个或多个实施方式中，所述技术可以被实施在电子设备中，该电子设备被配置为响应于传感器检测到在传感器视场中发生的姿势，而处理来自传感器的信息。透镜位于传感器上方，以准直入射在透镜上的光，并且将准直光传递到传感器。与不采用透镜的电子设备相比，该透镜可以提高传感器(例如，电子设备)的灵敏度。在实施例中，传感器可以包括光电检测器的阵列，该透镜可以与光电检测器的阵列集成。该电子设备被配置为基于该信号生成一个或多个光强度比。该电子设备接着被配置为基于一个或多个光强度比，来确定所执行的姿势的类型。示例性光电二极管阵列图1A到IC示出了光电检测器阵列100，其被配置为感测姿势，并提供代表该姿势的一个或多个电子信号。如图1A所示，光电检测器阵列100可以利用包括多个光电检测器(例如所示例子中示出的四个光电检测器102、104、106、108)的光电检测器阵列100来实现。在实施方式中，光电检测器102、104、106、108可以包括光电二极管电荷耦合装置(CXD)或者光电晶体管。然而可以预期，光电检测器可以采用能够感测或检测光或其它电磁辐射的其它设备。光电检测器阵列100包括透镜110，该透镜至少部分位于光电二极管阵列100上方，以聚焦并传送入射其上的光(例如，从多个角度入射在透镜110上的光)。在实施方式中，透镜110可以与光电检测器阵列100集成。例如，透镜110可以被配置为至少基本上准直入射在透镜120上的光，以便与不采用透镜的类似光电检测器阵列相比，提高光电检测器阵列100的灵敏度。如图所示，透镜110可以直接位于光电检测器阵列100的上方，以允许形成准直光到光电检测器102、104、106、108的通路。在实施方式中，透镜110可以包括微透镜阵列结构，该微透镜阵列结构可以与光电检测器阵列100集成。在这样的实施方式中，透镜110可以包括球形凸起表面，以折射入射其上的光(见图1A到1C)。然而，可以预期，可以采用各种其它方式配置透镜110。例如，透镜110可以是玻璃透镜、塑料透镜，等等，而且可以与光电检测器阵列分离。类似的，透镜110可以是非球面透镜、菲涅尔透镜， 等等。在示例性实施方式中，透镜110可以具有至少大约20微米(20 pm)到至少大约500 微米(500i!m)的直径。在还有另一个实施方式中，透镜110可以是至少大约百分之九十五 (95% )到至少大约百分之五十(50% )的透镜阵列100的表面面积。此外，透镜110的曲率可以变化。例如，透镜110可以是凹面的。在另一个例子中，透镜110可以是凸面的。然而可以理解，可以利用其它类型的透镜。例如，透镜110可以是双凸的、平凸的、正弯月的、 负弯月的、平凹的、双凹的，等等。透镜110可以具有至少大约十分之十三(1.3)到至少大约二(2)的折射率。然而可以理解，透镜110的规格可以根据光电检测器阵列100的各种设计确认而改变。如图1B所示，透镜110可以位于钝化层112上方、屏蔽层114之中。钝化层112 至少部分封装或者包围光电检测器102、104、106、108。在实施方式中，钝化层112可以包括至少实际上允许光从透镜110传送到光电检测器102、104、106、108的聚合物材料。例如， 钝化本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种电子设备，包括：传感器，其被配置为检测姿势，并响应于所述姿势提供信号；透镜，其设置在所述传感器上方，以准直入射在所述透镜上的光并将准直光传递到所述传感器；存储器，用于存储一个或多个模块；以及处理器，用于执行所述一个或多个模块，以便：生成对应于所述姿势的一个或多个位置的一个或多个光强度比；基于所述一个或多个光强度比，来确定姿势的类型。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：SH·温，
申请(专利权)人：马克西姆综合产品公司，
类型：发明
国别省市：