电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备制造技术

本发明专利技术涉及电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备。一种电子照相感光构件，其包括支承体、形成在支承体上的底涂层和形成在底涂层上的感光层，其中所述底涂层具有由式(C1)或式(C2)表示的结构。

【技术实现步骤摘要】
电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备
本专利技术涉及电子照相感光构件并涉及各自包括所述电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备。
技术介绍
现在，含有有机光电导性物质的电子照相感光构件是用于处理盒和电子照相设备的电子照相感光构件的主流。通常，电子照相感光构件包括支承体和形成在支承体上的感光层。为抑制从支承体侧至感光层侧的电荷注入并抑制起雾等图像缺陷的发生，在支承体和感光层之间设置底涂层。近年来，已使用具有较高感光度的电荷产生物质。然而，存在电荷产生物质的较高感光度导致更大量电荷产生的问题；因此，电荷易于滞留在感光层中，从而容易导致重影。具体地，易于发生其中仅在对应于前次旋转时用光照射部分的输出图像的部分的浓度增加的现象，即正重影现象。作为抑制(减少)此类重影现象的技术，已知将电子输送物质引入底涂层中的技术。在将电子输送物质引入底涂层中以免在底涂层上形成感光层时溶出电子输送物质的情况下，已知使用由难溶于感光层涂布液的溶剂的固化性材料组成的底涂层的技术。PCT日文翻译专利公开2009-505156号公报公开了一种底涂层，其包含具有芳族四羰基双酰亚胺骨架和交联位点的缩合聚合物(电子输送物质本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种电子照相感光构件，其包括：支承体；形成在所述支承体上的底涂层；和形成在所述底涂层上的感光层；其中所述底涂层包括由下式(C1)表示的结构、或由下式(C2)表示的结构，其中，在式(C1)和(C2)中，R11至R16、和R22至R25各自独立地表示氢原子、亚甲基、由?CH2OR2表示的一价基团、由下式(i)表示的基团或由下式(ii)表示的基团，R11至R16的至少一个和R22至R25的至少一个各自为由式(i)表示的基团，R11至R16的至少一个和R22至R25的至少一个各自为由式(ii)表示的基团，R2表示氢原子或具有1至10个碳原子的烷基，和R21表示烷基、苯基或被烷基取代的苯基，其中，在式(...

【技术特征摘要】
2012.06.29 JP 2012-147161;2013.04.25 JP 2013-09301.一种电子照相感光构件，其包括：支承体；形成在所述支承体上的底涂层；和形成在所述底涂层上的感光层；其特征在于，所述底涂层包括具有由下式(C1)表示的结构或由下式(C2)表示的结构的固化物，其中，在式(C1)和(C2)中，R11至R16、和R22至R25各自独立地表示氢原子、亚甲基、由-CH2OR2表示的一价基团、由下式(i)表示的基团或由下式(ii)表示的基团，R11至R16的至少一个和R22至R25的至少一个各自为由式(i)表示的基团，R11至R16的至少一个和R22至R25的至少一个各自为由式(ii)表示的基团，R2表示氢原子或具有1至10个碳原子的烷基，和R21表示烷基、苯基或被烷基取代的苯基，其中，在式(i)中，R61表示氢原子或烷基，Y1表示单键、亚烷基或亚苯基，D1表示由下式(D1)至(D4)的任一个表示的二价基团，和式(i)中的“*”表示键合式(C1)中的氮原子或式(C2)中的氮原子的一侧，-O-(D1)-NH-(D3)-S-(D4)其中，在式(ii)中，D2表示由上式(D1)至(D4)的任一个表示的二价基团，α表示具有1至6个主链原子的亚烷基、具有1至6个主链原子且被具有1至6个碳原子的烷基取代的亚烷基、具有1至6个主链原子且被苄基取代的亚烷基、具有1至6个主链原子且被烷氧基羰基取代的亚烷基或具有1至6个主链原子且被苯基取代的亚烷基，所述亚烷基的的主链中的碳原子之一可以被O、S、NH或NR1取代，R1表示具有1至6个碳原子的烷基，β表示亚苯基、被具有1至6个碳原子的烷基取代的亚苯基、被硝基取代的亚苯基或被卤素原子取代的亚苯基，γ表示具有1至6个主链原子的亚烷基或具有1至6个主链原子且被具有1至6个碳原子的烷基取代的亚烷基，l、m和n各自独立地表示0或1，A1表示由下式(A1)至(A9)的任一个表示的一价基团，和式(ii)中的“*”表示键合式(C1)中的氮原子或式(C2)中的氮原子的一侧，其中，在式(A1)至(A9)中，R101至R106、R201至R210、R301至R308、R401至R408、R501至R510、R601至R606、R701至R708、R801至R81...

【专利技术属性】
技术研发人员：中村延博，奥田笃，关户邦彦，关谷道代，伊藤阳太，加来贤一，友野宽之，石塚由香，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：