清洁装置及检测机台制造方法及图纸

本实用新型专利技术提出一种清洁装置及检测机台，清洁装置包括清洁棒、气管以及固定臂；气管的一端设置在清洁棒内；气管的另一端连接供气单元；清洁棒与固定臂连接；清洁棒设有通孔；检测机台使用上述清洁装置；当半导体晶圆放置在对准台进行对准时，即使用清洁装置对所述半导体晶圆表面进行气吹清理，从而减少在半导体晶圆表面颗粒，增加检测结果的准确性，并且由于是在对准台对准时便对半导体晶圆进行清理，不会额外占用清理时间，缩短了检测的时间，提高了生产效率。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种清洁装置，用于清理半导体晶圆的表面颗粒，其特征在于，包括：清洁棒、气管以及固定臂；所述气管的一端设置在所述清洁棒内；所述气管的另一端连接一供气单元；所述清洁棒与所述固定臂连接；所述清洁棒设有通孔。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：钱进，苏新香，张贺丰，
申请(专利权)人：中芯国际集成电路制造北京有限公司，
类型：实用新型
国别省市：