本发明专利技术提供不进行电极面积的缩小、屏蔽面积的扩大，就兼得检测灵敏度的维持和EMI对策的静电电容检测装置。静电电容检测装置构成为具有：以规定的厚度t形成的基板亦即基膜（20）；以规定的图案形成于基膜的表面（20a）的电极层（100）、该电极层由用于静电电容检测而触摸的电极（101）（101A、101B、101C、101D）和从该电极（101）引出的布线（121）构成；以与电极层的规定图案对应的屏蔽图案形成在基膜的背面（20b）的屏蔽层（200），屏蔽层的屏蔽图案形成在从基膜（20）的厚度t方向观察时不与电极（101）重复的电极的周围、以及不与布线（121）重复的布线的周围，并且形成于布线的布线间。
【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术提供不进行电极面积的缩小、屏蔽面积的扩大，就兼得检测灵敏度的维持和EMI对策的静电电容检测装置。静电电容检测装置构成为具有：以规定的厚度t形成的基板亦即基膜（20）；以规定的图案形成于基膜的表面（20a）的电极层（100）、该电极层由用于静电电容检测而触摸的电极（101）（101A、101B、101C、101D）和从该电极（101）引出的布线（121）构成；以与电极层的规定图案对应的屏蔽图案形成在基膜的背面（20b）的屏蔽层（200），屏蔽层的屏蔽图案形成在从基膜（20）的厚度t方向观察时不与电极（101）重复的电极的周围、以及不与布线（121）重复的布线的周围，并且形成于布线的布线间。【专利说明】静电电容检测装置
本专利技术涉及静电电容检测装置，尤其涉及静电电容检测基板的屏蔽构造具有特征的静电电容检测装置。
技术介绍
作为现有技术，已知有在基板上形成静电电容检测用的电极层，并且作为EMI对策形成有屏蔽层的静电电容检测装置(例如参照专利文献I)。该静电电容检测装置是具有形成了电极图案的电极基板的触摸传感器，且在与电极基板的电极图案同一面上的外周区域形成有由透明导电膜构成的屏蔽层，在该屏蔽层的上层形成有与电极图案电连接的输出布线等。根据该静电电容检测装置，由于在输出布线和电极基板之间形成有由透明导电膜构成的屏蔽层，所以即便手指等接触或靠近形成有多个输出布线的输出布线部亦即屏蔽区域，在该部分，手指等的静电电容和输出布线的静电电容的耦合也被屏蔽层屏蔽。因此，在手指等触摸、或靠近的部分，容量变化引起的噪声不会传递至输出布线等，尽管在传感器部没有输入，也会像有输入一样不进行检测，因而能够防止误动作的产生。另外，不产生容量变化所引起的噪声，能够容易地设定输入检测的阈值，因而能够进行准确的输入检测。专利文献1:日本特开2009 - 169720号公报但是，根据现有的静电电容检测装置，检测灵敏度因电极层和屏蔽层之间的寄生电容的增加而降低，另外，若通过缩小电极面积来进行EMI对策，则存在操作性因操作区域缩小而降低的问题。
技术实现思路
因此，本专利技术的目的在于提供不进行电极面积的缩小、屏蔽面积的扩大，就兼得检测灵敏度的维持和EMI对策的静电电容检测装置。本专利技术为了实现上述目的，提供如下静电电容检测装置，其特征在于，具有:以规定的厚度形成的基板；以规定的图案形成在上述基板的表面的电极层，该电极层由用于静电电容检测而触摸的电极和从上述电极引出的布线构成；以与上述电极层的上述规定的图案对应的屏蔽图案形成在上述基板的背面的屏蔽层；上述屏蔽层的上述屏蔽图案形成在从上述基板的上述厚度方向观察时不与上述电极重复的上述电极的周围、以及不与上述布线重复的上述布线的周围，并且形成在上述布线的布线间。也可以是根据上述所记载的静电电容检测装置，其特征在于，形成在上述布线的布线间的屏蔽层的局部在从上述基板的上述厚度方向观察时与上述电极重复。另外，也可以是根据上述所记载的静电电容检测装置，其特征在于，包括形成在上述布线的布线间的屏蔽层在内的上述屏蔽层全部以电连接的方式形成。另外，也可以是上述至中任意一项所记载的静电电容检测装置，其特征在于，上述屏蔽层由网状结构形成。根据本专利技术，能够提供不进行电极面积的缩小、屏蔽面积的扩大，就兼得检测灵敏度的维持和EMI对策的静电电容检测装置。【专利附图】【附图说明】图1是本专利技术的实施方式的静电电容检测装置的立体图。图2是从图1所示的A方向观察本专利技术的实施方式的静电电容检测装置的基膜的表面的俯视图。图3是本专利技术的实施方式，且是从图1所示的A方向透视观察静电电容检测装置的基膜的背面的俯视图。通过图示为这样的透视俯视图，能够容易地把握图1所示的基膜的表面的电极层和基膜的背面的屏蔽层的从基膜的厚度方向观察时的重复关系。图4A是比较例1，且是从图1所示的A方向透视观察静电电容检测装置的基膜的背面的俯视图。通过图示为这样的透视俯视图，能够容易地把握图1所示的基膜的表面的电极层和基膜的背面的屏蔽层的从基膜的厚度方向观察时的重复关系。图4B是比较例2，且是从图1所示的A方向透视观察了静电电容检测装置的基膜的背面的俯视图。通过图示为这样的透视俯视图，能够容易地把握图1所示的基膜的表面的电极层和基膜的背面的屏蔽层的从基膜的厚度方向观察时的重复关系。图4C是比较例3，且是从图1所示的A方向透视观察静电电容检测装置的基膜的背面的俯视图。通过图示为这样的透视俯视图，能够容易地把握图1所示的基膜的表面的电极层和基膜的背面的屏蔽层的从基膜的厚度方向观察时的重复关系。 图4D是比较例4，且是从图1所示的A方向观察静电电容检测装置(传感器片10)的基膜20的表面20a的俯视图。图5是表示本专利技术的实施方式的静电电容检测装置和比较例的、电极和电极寄生电容的关系的寄生电容测定结果的曲线图。图6是表示本专利技术的实施方式的静电电容检测装置和比较例的无线电噪声评价的结果的表。符号说明10…传感器片；11…传感器区域；12…连接器区域;20…基膜;20a…表面;20b…背面;100…电极层；101 (101A、101B、101C、101D)…电极；121 (121A、121B、121C、121D)…布线；125…引出部；126…传感器直线部；127…连接器布线部;200…屏蔽层；210 (210a、210b、210c、210d)…周围；211 …部分；221a…周围；222a、222b、222c、222d…连接部；250…连接器；300…屏蔽层;300a、300b、300c、300d…周围;320…周围;400…屏蔽层;400a、400b、400c、400d...周围;421a、421b、421c、421d、421e...周围；500…屏蔽层；500a、500b、500c、500d…周围；521a、521e…外侧；600…屏蔽层；600a、600b、600c、600d…周围；621a、621e…外侧ο【具体实施方式】(静电电容检测装置的构成)图1是本专利技术的实施方式的静电电容检测装置的立体图。静电电容检测装置一般由触摸检测电极部及其控制部构成，但本专利技术的实施方式的静电电容检测装置相当于上述的触摸检测电极部。上述的控制部对触摸检测电极部施加规定的电压,通过触摸操作检测电压的降低，上述的控制部现已作为各种技术而被公知。因此，后述的本专利技术的实施方式的静电电容检测装置亦即传感器片10是静电电容检测装置的主要构成部分，其作为静电电容检测装置而发挥功能。本专利技术的实施方式的静电电容检测装置亦即传感器片10具有:以规定的厚度t形成的基板亦即基膜20 ;电极层100，其以规定的图案形成在基膜20的表面20a，该规定的图案由用于静电电容检测而进行触摸的电极101 (101A、101B、101C、101D)和从该电极101引出的布线121构成；以及、屏蔽层200，其以与电极层100的规定的图案对应的屏蔽图案形成在基膜20的背面20b，屏蔽层200的屏蔽图案构成为，形成在从基膜20的厚度t方向进行观察时不与电极101重复的电极101的周围以及不与布线121重复的布线121的周围，并且形成在布线121的布线间。(传感器片10)传感器片10是利用导体箔等在膜本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种静电电容检测装置，其特征在于，具有：基板，其以规定的厚度形成；电极层，其以规定的图案形成在所述基板的表面，该规定的图案由用于静电电容检测而触摸的电极和从所述电极引出的布线构成；以及屏蔽层，其以与所述电极层的所述规定的图案对应的屏蔽图案形成在所述基板的背面，所述屏蔽层的所述屏蔽图案形成在从所述基板的所述厚度的方向观察时不与所述电极重复的所述电极的周围、以及不与所述布线重复的所述布线的周围，并且形成在所述布线的布线间。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：清水智巨，泽田武士，
申请(专利权)人：株式会社东海理化电机制作所，
类型：发明
国别省市：
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