一种低温等离子体处理织物的直接印花方法技术

技术编号:9431552 阅读:87 留言:0更新日期:2013-12-11 22:28
本发明专利技术公开了一种低温等离子体处理织物的直接印花方法,先将待印织物应用低温等离子体处理设备进行整理,再应用辊涂设备或印花设备中第一套色的上浆工具将季铵盐溶液满底涂布在织物待印面,然后应用印花设备根据预先设计的图案,将其余套色的色浆依次印制在织物待印面上,最后经固色水洗定型即得成品。经实验表明,应用本发明专利技术低温等离子体处理织物的直接印花相较于未经等离子体处理织物的直接印花,其表观得色量K/S值提升10~50%。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种低温等离子体处理织物的直接印花方法,先将待印织物应用低温等离子体处理设备进行整理,再应用辊涂设备或印花设备中第一套色的上浆工具将季铵盐溶液满底涂布在织物待印面,然后应用印花设备根据预先设计的图案,将其余套色的色浆依次印制在织物待印面上,最后经固色水洗定型即得成品。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:黄莎莉王勤读李加利
申请(专利权)人:福建省华奇环保印花有限公司
类型:发明
国别省市:

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