一种氧化钙团块高活性与高强度耦合调控方法技术

技术编号:9376987 阅读:161 留言:0更新日期:2013-11-27 19:30
一种氧化钙团块高活性与高强度耦合调控方法,首先通过改变影响氧化钙团块活性的影响因素:增强剂量、等静压压力、保压时间、等温烧结温度及保温时间对活性进行调控;然后改变影响氧化钙团块强度的影响因素:增强剂量、轴向加压压力、保压时间、高径比、非等温烧结温度、保温时间、升温速率及随炉冷却速率对强度进行调控;其次从活性与强度两方面进行耦合调控,改变可以同时提高活性和强度的影响因素:增强剂量、轴向压保压时间、等温烧结温度、保温时间;最后进行优化活性和强度;本发明专利技术在有效解决了团块氧化钙既具有高活性又具有高强度的技术难题同时高效消纳处理了电石渣,具有较高的环境效益和经济效益。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种氧化钙团块高活性与高强度耦合调控方法,其特征在于包括以下步骤:(1)氧化钙团块制备将电石渣与水配成固含量5.0?30.0%电石渣浆液泵入旋流分离系统净化除杂;得到的溢流电石渣浆液沉降1.0?5.0h使固液分离;在50?120℃温度下干燥5.0?20.0h,以75?100μm的电石渣粉体制备氧化钙团块;(2)高活性调控将所述步骤(1)中得到的氧化钙团块加入的5.0?10.0%水作为增强剂,氧化钙团块活性随水加入量增加而提高;当等静压压制且加压力150.0?300.0kg/cm2,氧化钙团块活性随着压力的增大而提高;当保压时间为0.5?3.0min,氧化钙团块活性随保压时间的延长而增加;当等温...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:曹建尉杨航王志公旭中
申请(专利权)人:中国科学院过程工程研究所
类型:发明
国别省市:

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