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一种氧化钙团块高活性与高强度耦合调控方法，首先通过改变影响氧化钙团块活性的影响因素：增强剂量、等静压压力、保压时间、等温烧结温度及保温时间对活性进行调控；然后改变影响氧化钙团块强度的影响因素：增强剂量、轴向加压压力、保压时间、高径比、非等温...
该专利属于中国科学院过程工程研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院过程工程研究所授权不得商用。

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