自清洁杀菌的键盘保护膜制造技术

本实用新型专利技术涉及高分子薄膜领域，尤其涉及一种键盘保护膜。本实用新型专利技术自清洁杀菌的键盘保护膜在基层上设置了一层纳米二氧化钛，利用纳米二氧化钛的光催化作用将薄膜表面的污物、细菌进一步氧化变成气体或者很容易被擦掉的物质，避免了细菌的滋生，进一步起到了杀菌消毒的作用，能有效杀灭键盘膜上99%的细菌，很好的保护了使用者的身体健康。本实用新型专利技术自清洁杀菌的键盘保护膜在基层上设置了一层纳米二氧化钛，利用纳米二氧化钛的光催化作用将薄膜表面的污物、细菌进一步氧化变成气体或者很容易被擦掉的物质，避免了细菌的滋生，进一步起到了杀菌消毒的作用，能有效杀灭键盘膜上99%的细菌，很好的保护了使用者的身体健康。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种自清洁杀菌的键盘保护膜，其特征是：包括基层(1)、纳米二氧化钛层(2)和吸附层(3)，所述纳米二氧化钛层(2)设置在基层(1)的上表面，所述吸附层(3)设置在基层(1)的下表面。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：林峰，
申请(专利权)人：上海冠旗电子新材料股份有限公司，
类型：实用新型
国别省市：