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双膜覆盖沟形温室种植模式及配套点播机制造技术

技术编号:9233114 阅读:275 留言:0更新日期:2013-10-09 19:00
本发明专利技术公开了一种双膜覆盖沟形温室种植模式及配套点播机,属于农艺方法及配套机具领域。双膜覆盖沟形温室种植模式,是在铺膜播种后再覆盖一层膜,第一层膜是下膜,覆盖在倒梯形断面的小沟的沟底、沟壁及沟外地面上。第二层膜是上膜,覆盖在沟面上,使小沟内的空间封闭成为一个小温室。和双膜覆盖沟形温室种植模式配套的双膜覆盖沟形温室点播机,包括机架、地轮、地表整形机构、铺膜机构、覆土滚筒和点种器。双膜覆盖沟形温室种植模式其上膜在沟和埂间形成小温室,保墒和增温效果明显,幼苗在从下膜膜孔出来后在小温室有生长空间,没有缓苗问题,为提前收获和增产增收创造了条件。

【技术实现步骤摘要】
一种双膜覆盖沟形温室种植方法
:本专利技术属于一种农业种植模式以及与其配套的铺膜播种机。
技术介绍
:现有的双模覆盖种植模式是在铺膜点种后再覆盖一层膜,两次铺膜作业一次完成。目的是防止点种膜孔漏气跑墒,影响出苗。这种种植模式在出苗后必须揭去上膜,防止影响幼苗生长。但是这种作业方式使幼苗从温暖的膜下环境突然来到温度较低的自然环境会感冒,需要一段缓苗时间,延长了生长期,影响了产量提高。
技术实现思路
:本专利技术的目的是提供一种双膜覆盖沟形温室种植方法,在这种模式下幼苗出土后对自然环境有平稳的过渡,消除缓苗。因其提高地温快还可以提前播种,延长生长期。配套点播机保证了该种植模式顺利实现。为达此目的采用了这样的技术方案:双膜覆盖沟形温室种植方法,其第一层膜是下膜,覆盖在倒梯形断面的小沟的沟底、沟壁及沟外地面上,第二层膜是上膜,覆盖在沟面上,使小沟内的空间封闭成为一个小温室,两次铺膜作业由配套点播机一次完成;配套点播机包括机架、地轮、地表整形机构、铺膜机构、覆土滚筒和点种器,在机架前端安装的地表整形机构是一个由开沟铲及其两侧刮土板组成的开沟扶埂器,其开沟铲两翼后面有和前进方向平行的沟壁成形板,两侧本文档来自技高网...
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【技术保护点】
双膜覆盖沟形温室种植模式,是在铺膜播种后再覆盖一层膜,两次铺膜作业由配套点播机一次完成,其特征是:第一层膜是下膜,覆盖在倒梯形断面的小沟的沟底、沟壁及沟外地面上,种子点播在沟底的膜下面,膜孔上有封闭膜孔的覆土带;第二层膜是上膜,覆盖在沟面上,使小沟内的空间封闭成为一个小温室。

【技术特征摘要】
1.一种双膜覆盖沟形温室种植方法,其特征是:第一层膜是下膜,覆盖在倒梯形断面的小沟的沟底、沟壁及沟外地面上,第二层膜是上膜,覆盖在沟面上,使小沟内的空间封闭成为一个小温室,两次铺膜作业由配套点播机一次完成;配套点播机包括机架、地轮、地表整形机构、铺膜机构、覆土滚筒和点种器,在机架(1)前端安装的地表整形机构是一个由开沟铲(10)及其两侧刮土板(9)组成的开沟扶埂器(2),其开沟铲两翼后面有和前进方向平行的沟壁成形板(11),两侧刮土板出土端后面有和前进方向平行的土埂成形板(12),须开出倒梯形断面的小沟,沟壁顶部高出地面,形成小埂,沟底距地面高度3-10厘米,沟底距埂面高度8-20厘米,沟底宽度10厘米;开沟扶埂器后面是下膜铺膜机构(4),其位置使膜(3)覆盖在开好倒梯形断面小沟的种植带上;接着是出土间隙上带有筛网的膜...

【专利技术属性】
技术研发人员:兰长贵
申请(专利权)人:兰长贵
类型:发明
国别省市:

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