光学系统内部腔室精密气体控制方法及其装置制造方法及图纸

一种光学系统内部腔室精密气体控制装置，包括：光学系统；气体控制回路，所述气体控制回路采用控制参数解耦方法设计。一种光学系统内部腔室精密气体控制方法，包括气体控制回路控制参数解耦方法，具体为：给出控制参数集；对控制参数集进行敏感性分析；对控制参数集进行相对独立性分析；对控制参数进行初次分段；选择控制装置；判断控制装置可行性；若可行，气体控制回路构建完成；若不可行，进行二次分段；选择控制装置；判断每段控制装置可行性，若可行，气体控制回路构建完成；若不可行，再分段，直至可行。本发明专利技术可对气体回路进行多参数解耦；实现高倍降压；抑制二次污染；压力稳定性好；参数在线可调，以及结构简单，可靠性高，维护方便。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种光学系统内部腔室精密气体控制装置，其特征在于，所述控制装置包括：光学系统，所述光学系统两端分别设置进气口和排气口，所述光学系统内部腔室充入净化气体；气体控制回路，与所述光学系统连通，用于控制光学系统内部腔室的气体，所述气体控制回路采用控制参数解耦方法设计，所述气体控制回路包括向所述光学系统输入净化气体的供气回路和用以排除所述光学系统内清洗气体的排气回路。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：聂宏飞，杨志斌，俞芸，李其涛，王云英，
申请(专利权)人：上海微电子装备有限公司，
类型：发明
国别省市：