一种低弹跳真空灭弧室结构制造技术

本实用新型专利技术公开了一种低弹跳真空灭弧室结构，特征在于：包括有杯托（5），杯托（5）内侧面分别与静触头（2）、动触头（4）连接，杯托（5）连接的内侧面上设有环形槽（7），环形槽（7）环绕的内圈为中间受力部分（9），加强筋（3）一端连接杯托（5）上的中间受力部分（9）。本实用新型专利技术即是在压力不变的情况下，通过改变受力面积，从而增大压强，促使工件在高压强的作用下发生微量塑性变形，吸收消除掉作用力。作用力降低，从而导致弹跳时间缩短、弹跳幅度减小，降低了触头发热、熔焊现象出现的概率，避免了触头电磨损加重，延长了真空灭弧室的使用寿命。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种低弹跳真空灭弧室结构，其特征在于：包括有杯托（5），杯托（5）内侧面分别与静触头（2）、动触头（4）连接，杯托（5）连接的内侧面上设有环形槽（7），环形槽（7）环绕的内圈为中间受力部分（9），加强筋（3）一端连接杯托（5）上的中间受力部分（9）。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：张毅，陈志会，周吉冰，
申请(专利权)人：中国振华电子集团宇光电工有限公司国营第七七一厂，
类型：实用新型
国别省市：