狭缝光波导外延光栅FP腔级联型光学生化传感芯片制造技术

技术编号:9141621 阅读:142 留言:0更新日期:2013-09-12 03:25
本发明专利技术的狭缝光波导外延光栅FP腔级联型光学生化传感芯片,包括自下而上依次层叠键合的硅基层、二氧化硅层和单晶硅层构成的SOI基体,SOI基体的单晶硅层包含光学耦合连接的两个外延型光栅FP腔,所述外延型光栅FP腔的外延型光栅形成于SOI基体外侧,为外凸型齿状光栅。由于在方案中引入狭缝光波导结构,而狭缝波导能够将光极大的限制在狭缝区域以增强光和物质之间的相互作用,其优势在于狭缝空间中的光能量密度远远大于倏逝场中光能量的密度,光与物质相互作用更强,检测灵敏度更高。并可以在达到相同传感性能的条件下,有利于实现光学生化传感器的微型化与片上传感系统。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
狭缝光波导外延光栅FP腔级联型光学生化传感芯片,包括自下而上依次层叠键合的硅基层、二氧化硅层和单晶硅层构成的SOI基体,其特征在于,所述SOI基体的单晶硅层包含第一光学谐振腔和第二光学谐振腔,所述第一光学谐振腔与第二光学谐振腔具有不相同的自由光谱范围,二者光学耦合连接,所述第一光学谐振腔和第二光学谐振腔同为外延型光栅FP腔,所述外延型光栅FP腔的外延型光栅形成于SOI基体外侧,为外凸型齿状光栅。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:袁国慧王卓然高亮
申请(专利权)人:成都谱视科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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