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印章盒结构制造技术

技术编号:9121920 阅读:291 留言:0更新日期:2013-09-05 08:34
本实用新型专利技术公开了一种印章盒结构,包括一壳体、一扣合件、一印泥盒,壳体具有上、下壳,上、下壳中央具有容室,并分别设置枢接部枢接,于上壳侧壁内面设置扣孔;下壳于侧壁设置可组装扣合件的接合部,接合部具有容置槽,并于容置槽设置挡壁,使挡壁与侧壁间具有嵌插空间,又于接合部中央设置贯穿侧壁的穿孔,于下壳设置接合槽;扣合件由可弯曲并可挠性回复材料制造,设置可嵌置于下壳容置槽的嵌接部,并于嵌接部上方对应上壳扣孔位置设置扣体,又于嵌接部前方设置可穿插下壳穿孔并外凸于穿孔外侧的按压部,又印泥盒具有底座上盖,并设于下壳的接合槽位置;借助上述结构,本实用新型专利技术可具有较佳启闭操作便利性、稳定性,并可防止手部沾附印泥功效。(*该技术在2023年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种印章盒结构,其特征在于,包括:一壳体,具有上、下壳,该上、下壳中央具有容室,并分别设置枢接部枢接,又于上壳侧壁内面设置扣孔;又该下壳于侧壁设置组装扣合件的接合部,该接合部具有容置槽,并于容置槽设置挡壁,该挡壁与侧壁间具有嵌插空间,又于接合部中央设置贯穿侧壁的穿孔;一扣合件,由可弯曲并可挠性回复材料制造,并设置嵌置于下壳容置槽的嵌接部,并于嵌接部上方对应上壳扣孔位置设置扣体,又于嵌接部前方设置穿插下壳穿孔并外凸于穿孔外侧的按压部。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:谢东雄
申请(专利权)人:谢东雄
类型:实用新型
国别省市:

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