V型铜镍硅合金异形带制造技术

技术编号:9103301 阅读:142 留言:0更新日期:2013-08-30 20:40
本实用新型专利技术涉及一种V型铜镍硅合金异形带,适用于电子行业中。整体呈矩形状,其上方开设一凹槽,该凹槽由两部分组成,上部分截面为V型,下部分为和V型下端面对应的矩形。本实用新型专利技术设置成的异形状,满足用于对导体材料有特殊截面形状要求的场合。(*该技术在2023年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

V型铜镍硅合金异形带
本技术涉及一种适用于电子行业中的V型铜镍硅合金异形带。
技术介绍
随着国内外电机行业的迅速发展,对与之配套的铜排的技术要求越来越苛刻。传 统的电工用铜排采用高精度的纯铜且其横截面呈矩形,只能用与一般电器产品作导体材 料,而对于一些对导体材料有特殊屈服强度,导电率和截面形状要求的场合则不能适用。因 而满足不了电器行业产品升级换代的需求。
技术实现思路
本技术的目的在于克服上述不足,目的在于提供一种能适用于对导体材料有 屈服强度,导电率和特殊截面形状要求的场合的电工V型铜镍硅合金异形带。为此本技术采用的技术方案是:其整体呈矩形状,其上方开设一凹槽,该凹槽 由两部分组成,上部分截面为V型,下部分为和V型下端面对应的矩形。本技术的优点是:本技术设置成的异形状,满足用于对导体材料有特殊 截面形状要求的场合。附图说明图1为本技术的结构示意图。具体实施方式本技术整体呈矩形状,其上方开设一凹槽,该凹槽由两部分组成,上部分截面 为V型,下部分为和V型下端面对应的矩形。本技术铜排使用先进的铜镍硅合金,具有良好的屈服强度和电导率。权利要求1.V型铜镍硅合金异形带,其特征在于,整体呈矩形状,其上方开设一凹槽,该凹槽由两 部分组成,上部分截面为V型,下部分为和V型下端面对应的矩形。专利摘要本技术涉及一种V型铜镍硅合金异形带,适用于电子行业中。整体呈矩形状,其上方开设一凹槽,该凹槽由两部分组成,上部分截面为V型,下部分为和V型下端面对应的矩形。本技术设置成的异形状,满足用于对导体材料有特殊截面形状要求的场合。文档编号H01B1/02GK203165486SQ20132005036公开日2013年8月28日 申请日期2013年1月30日 优先权日2013年1月30日专利技术者刘平, 周志云, 刘新宽, 马凤仓, 陈小红, 胡锡贞 申请人:江苏迅达电磁线有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
V型铜镍硅合金异形带,其特征在于,整体呈矩形状,其上方开设一凹槽,该凹槽由两部分组成,上部分截面为V型,下部分为和V型下端面对应的矩形。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:刘平周志云刘新宽马凤仓陈小红胡锡贞
申请(专利权)人:江苏迅达电磁线有限公司
类型:实用新型
国别省市:

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