本发明专利技术使用如下所述的多个光掩模（2），向各光掩模（2）的第1及第2开口（1A、1B）分别射入偏振方向和对于基板的入射角中的至少一方不同的两束偏振光，使通过第1及第2开口（1A、1B）的两束偏振光向在光掩模（2）下侧被输送的基板（9）上的取向膜照射，相邻地形成第1及第2取向区域，上述多个光掩模在与基板（9）的输送方向交叉的方向上相互交错地排列配置，使得上述第1及第2开口（1A、1B）在该方向上以一定的排列间距排列，上述第1及第2开口（1A、1B）的与基板输送方向交叉的方向上的宽度被设定成，取向状态不同的第1及第2取向区域的相邻的端部区域重叠与对准装置（7）的跟随精度大致相等的尺寸，如此形成上述第1及第2开口（1A、1B）。由此，能够使在多个光掩模的接缝发生的取向混乱不显著。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
【专利技术属性】
技术研发人员：水村通伸，
申请(专利权)人：株式会社V技术，
类型：
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。