投影物镜波像差在线检测装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种投影物镜波像差在线检测装置，包括光源(LA)、投影物镜(PO)、参考标记(RP)、探测器(DE)、掩模板(MA)。掩模板(MA)用于将由所述光源(LA)出射的激光转换为两束相干光，该两束相干光经所述投影物镜(PO)后在所述投影物镜(PO)的焦平面处发生干涉，产生干涉条纹；该干涉条纹经过所述参考标记(RP)后照射在所述探测器(DE)上，转化为电信号；根据该电信号的强度得到所述干涉条纹的位置偏移量，再根据偏移量的大小可得到所述投影物镜(PO)的波像差。本实用新型专利技术能够测量全部37项Zernike系数，简化了测试流程和波像差计算方法，提高了测量精度。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术光记录
，具体涉及光刻机的投影物镜的波像差在线测量装置，特别是基于双光束干涉的投影物镜波像差在线检测装置。
技术介绍
投影物镜的波像差会影响曝光线条的成像质量，如球差会影响光刻机的分辨力，彗差会影响线条的不对称性和套刻精度，像散会影响X、Y两个方向的成像线条不均匀性。随着光刻机特征尺寸越来越小，对投影物镜的波像差要求也越来越严格，不但要求低级像差(如球差、彗差和像散)很小，而且还对高级像差(高达37项Zernike系数)提出严格的要求，这就要求投影物镜波像差在线测量装置能够同时测量全部波像差，以便实时调整投影物镜的波像差，以满足光刻工艺的需求。现有技术I (Hans van der laan, Marcel Dierichs, Henk van Greevenbroek,etc.“Aerial image measurement methods for fast aberration set-up andillumination pupil verification”，Proc.SPIE2001,4346, 394-407)提出了一种基于透射像传感器(TIS)的测量方法本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种投影物镜波像差在线检测装置，包括光源(LA)、投影物镜(PO)、参考标记(RP)和探测器(DE)，所述光源(LA)用于出射激光，其特征在于：?所述装置还包括掩模板(MA)，由所述光源(LA)出射的激光经由该掩模板(MA)后入射到所述投影物镜(PO)；?所述掩模板(MA)包括用于形成干涉条纹的测试标记，测试标记构成位相光栅图案；?所述参考标记(RP)设置在所述投影物镜(PO)的焦平面处，构成振幅型光栅图案；?所述探测器(DE)设置在所述光路中参考标记(RP)的后方；?其中，所述掩模板(MA)能够将由所述光源(LA)出射的激光转换为两束相干光，该两束相干光经所述投影物镜(PO)后在所述投影物镜...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：刘广义，齐月静，苏佳妮，周翊，王宇，
申请(专利权)人：中国科学院光电研究院，
类型：实用新型
国别省市：