电子照相感光构件、处理盒、电子照相设备和制造电子照相感光构件的方法技术

一种电子照相感光构件，其包括作为电子照相感光构件的表面层的电荷输送层；其中所述电荷输送层具有基体-区域结构，所述基体-区域结构具有包含组分β和组分γ的基体以及包含组分α的区域。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及。
技术介绍
作为安装到电子照相设备上的电子照相感光构件，已知包含有机电荷产生物质(有机光导电性物质)的有机电子照相感光构件(以下，称为“电子照相感光构件”)。在电子照相法中，各种构件例如显影剂、充电构件、清洁刮板、纸和转印构件(以下，也称为“接触构件等”)与电子照相感光构件的表面接触。因此，需要电子照相感光构件降低由于与此类接触构件等的接触应力引起的图像劣化的产生。特别地，近年来，随着电子照相感光构件耐久性的改善，需要电子照相感光构件具有持续的降低由于接触应力引起的图像劣化的效果O为了持续的降低接触应力，专利文献I已提出使用通过将硅氧烷结构组装为分子链获得的娃氧烧树脂而在表面层中形成基体-区域结构(matrix-domain structure)的方法。特别地，该文献显 示使用由特定的硅氧烷结构组装的聚酯树脂可实现电子照相感光构件的接触应力的持续降低和重复使用时的电位稳定性(变动的抑制)之间的优异平衡。另一方面，已提出将在分子链中具有硅氧烷结构的硅氧烷改性的树脂添加到电子照相感光构件的表面层的技术。专利文献2和专利文献3各自提出包含由具有特定结构的硅氧烷结构组装的聚碳酸酯树脂和由具有特定结构的硅氧烷结构组装的聚酯树脂的电子照相感光构件，并报道了例如感光构件表面平滑性(sliding property)和耐久性改善等效果O引文列表专利文献专利文献1:国际专利W02010/008095A专利文献2:日本专利申请特开H05-158249专利文献3:日本专利申请特开H08-234468
技术实现思路
专利技术要解决的问题专利文献I中公开的电子照相感光构件具有接触应力的持续降低和重复使用时的电位稳定性之间的优异平衡。然而，本专利技术的专利技术人已进行了研究，结果本专利技术人发现，在使用具有特定结构的电荷输送物质的情况中，可进一步改善重复使用时的电位稳定性。专利文献2已报道使用在侧链具有硅氧烷结构的聚碳酸酯树脂来改善电子照相感光构件表面的平滑性。然而，专利文献2的电子照相感光构件未充分地实现接触应力的持续降低和电子照相感光构件重复使用时的电位稳定性(变动的抑制)之间的优异平衡。专利文献3已报道了，在包含由硅氧烷结构组装的树脂的感光构件中，改善表面的平滑性和耐磨耗性。然而，专利文献3的电子照相感光构件未充分地实现接触应力的持续降低和电子照相感光构件重复使用时的电位稳定性(变动的抑制)之间的优异平衡。本专利技术的目的是提供包含特定电荷输送物质的电子照相感光构件，其具有与接触构件等的接触应力持续降低和重复使用时的电位稳定性之间的优异平衡。本专利技术另外的目的是提供具有电子照相感光构件的处理盒和具有电子照相感光构件的电子照相设备。本专利技术另外的目的是提供制造电子照相感光构件的方法。用于解决问题的方案上述目的通过以下的本专利技术实现。本专利技术涉及电子照相感光构件，其包括:导电性支承体、设置于导电性支承体上且包含电荷产生物质的电荷产生层以及设置于电荷产生层上且为电子照相感光构件的表面层的电荷输送层；其中电荷输送层具有基体-区域结构，所述基体-区域结构具有:区域，所述区域包含由下式(A)表示的重复结构单元和由下式(B)表示的重复结构单元的聚酯树脂；和基体，所述基体包含选自由具有由下式(C)表示的重复结构单元的聚碳酸酯树脂C和具有由下式(D)表示的重复结构单元的聚酯树脂D组成的组的至少一种树脂以及选自由下式(I)表示的化合物和下式(Γ )表示的化合物、下式(2)表示的化合物和下式(2’)表示的化合物组成的组的至少一种电荷输送物质；其中聚酯树脂A中的硅氧烷部位的含量为5.0质量％以上且40质量％以下，相对于聚酯树脂A的总质量。权利要求1.一种电子照相感光构件,其包括: 导电性支承体，设置于所述导电性支承体上且包含电荷产生物质的电荷产生层，和设置于所述电荷产生层上且为所述电子照相感光构件的表面层的电荷输送层； 其中所述电荷输送层具有基体-区域结构，所述基体-区域结构具有: 区域，所述区域包含具有由下式(A)表示的重复结构单元和由下式(B)表示的重复结构单元的聚酯树脂A ;和 基体，所述基体包含选自由具有由下式(C)表示的重复结构单元的聚碳酸酯树脂C和具有由下式(D)表示的重复结构单元的聚酯树脂D组成的组的至少一种树脂以及选自由下式(I)表示的化合物、下式(Γ )表示的化合物、下式(2)表示的化合物和下式(2’ )表示的化合物组成的组的至少一种电荷输送物质； 其中所述聚酯树脂A中的娃氧烧部位的含量为5.0质量％以上且40质量％以下,相对于所述聚酯树脂A的总质量；2.根据权利要求1所述的电子照相感光构件，其中所述电荷输送层中所述硅氧烷部位的含量为I质量％以上且20质量％以下，相对于所述电荷输送层中全部树脂的总质量。3.—种处理盒，其可拆卸地安装到电子照相设备的主体，其中所述处理盒一体化地支承:根据权利要求1或2所述的电子照相感光构件；和选自由充电装置、显影装置、转印装置和清洁装置组成的组的至少一种装置。4.一种电子照相设备，其包括:根据权利要求1或2所述的电子照相感光构件；充电装置；曝光装置；显影装置和转印装置。5.一种制造根据权利要求1或2所述的电子照相感光构件的方法， 其中所述方法包括通过在所述电荷产生层上施涂电荷输送层涂布液并干燥所述涂布液来形成所述电荷输送层的步骤，和其中所述电荷输送层涂布液包含:所述聚酯树脂A，选自由所述聚碳酸酯树脂C和所述聚酯树脂D组成的组的至少一种树脂，以及选自由式(I)表不的化合物、式(I’ )表不的化合物、式(2)表不的化合物和式(2’ )表不的化合物组成的组的至少一种电荷输送物质。全文摘要一种电子照相感光构件，其包括作为电子照相感光构件的表面层的电荷输送层；其中所述电荷输送层具有基体-区域结构，所述基体-区域结构具有包含组分β和组分γ的基体以及包含组分α的区域。文档编号G03G5/05GK103238114SQ20118005777公开日2013年8月7日 申请日期2011年11月25日 优先权日2010年12月2日专利技术者野口和范, 姉崎隆志, 志田和久, 奥田笃, 村井潮, 大垣晴信 申请人:佳能株式会社本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：野口和范，姉崎隆志，志田和久，奥田笃，村井潮，大垣晴信，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：
国别省市：