一种使物体接受恒定辐照量的方法及装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种使物体接受恒定辐照量的方法及装置，包括一控制单元、一高度调节单元、一光源调节单元和一检测单元；所述高度调节单元包括一驱动机构和一光源架，所述驱动机构驱动光源架上下移动，该驱动机构上还设有一位置传感器，所述驱动机构和位置传感器分别与控制单元电连接；所述光源调节单元包括一电源和一固定在光源架上的光源，所述控制单元、电源和光源依次电连接；所述检测单元包括分别设于光源下方并与控制单元电连接的一速度传感器和一光传感器。本发明专利技术可使以任意速度经过光源下方的物体所接受的辐照量均相同，提高产品的合格率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及用于进行光化学反应的设备，尤其涉及一种使物体接受恒定辐照量的方法及装置。
技术介绍
在光化学反应作业中，对光源的辐射能量有一定的要求，而且根据不同的光化学材料和反应要求，需要光源系统为光化学材料提供恒定的光能量。目前常用的光源为弧光放电灯和uv-led阵列，待辐照的产品在光源下方的“接受光照面”位置通过，为达到预期的辐照效果，产品必须接受一定的辐照量。现有光化学反应装置中，光源的工作功率不变，而生产过程中输送设备的输送速度并非一直处于匀速状态，当输送速度较慢时产品接受的辐射量过多，当输送速度较快时产品接受的辐射量过少，从而导致产品不良率增加。
技术实现思路
本专利技术的目的在于为克服现有技术的缺陷，而提供一种可根据输送设备的输送速度而调节光源的高度及功率，从而使经过光源下方的物体所接受的辐照量恒定的方法及装置。为实现上述目的，本专利技术采用以下技术方案:一种使物体接受恒定辐照量的装置，包括一控制单元、一高度调节单元、一光源调节单元和一检测单元；所述高度调节单元包括一驱动机构和一光源架，所述驱动机构驱动光源架上下移动，该驱动机构上还设有一位置传感器，所述驱动机构和位置传感器本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种使物体接受恒定辐照量的装置，其特征在于：包括一控制单元（2）、一高度调节单元、一光源调节单元和一检测单元；所述高度调节单元包括一驱动机构和一光源架（12），所述驱动机构驱动光源架（12）上下移动，该驱动机构上还设有一位置传感器（9），所述驱动机构和位置传感器（9）分别与控制单元（2）电连接；所述光源调节单元包括一电源（3）和一固定在光源架（12）上的光源（8），所述控制单元（2）、电源（3）和光源（8）依次电连接；所述检测单元包括分别设于光源（8）下方并与控制单元（2）电连接的一光传感器（4）和一用于检测光照面（5）上产品速度的速度传感器（13）。

【技术特征摘要】
1.一种使物体接受恒定辐照量的装置，其特征在于:包括一控制单元(2)、一高度调节单元、一光源调节单元和一检测单元；所述高度调节单元包括一驱动机构和一光源架(12)，所述驱动机构驱动光源架(12)上下移动，该驱动机构上还设有一位置传感器(9)，所述驱动机构和位置传感器(9)分别与控制单元(2)电连接；所述光源调节单元包括一电源(3)和一固定在光源架(12)上的光源(8)，所述控制单元(2)、电源(3)和光源(8)依次电连接；所述检测单元包括分别设于光源(8)下方并与控制单元(2)电连接的一光传感器(4)和一用于检测光照面(5)上产品速度的速度传感器(13)。2.根据权利要求1所述一种使物体接受恒定辐照量的装置，其特征在于:所述驱动机构包括一驱动部件(I)、一马达(10)和一与马达(10)驱动连接的螺杆(11)，所述控制单元(2)、驱动部件(I)和马达(10)依次电连接。3.根据权利要求2所述一种使物体接受恒定辐照量的装置，其特征在于:所述光源架(1...

【专利技术属性】
技术研发人员：张炳忠，
申请(专利权)人：深圳市润沃机电有限公司，
类型：发明
国别省市：