【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种用于产生轫致辐射的辐射系统。
技术介绍
所述的辐射系统也被称为高能辐射源。例如西门子公司的模型“SILACstationm-” 即是一个著名的上述系统。上述辐射系统通过阻止兆电子伏范围的电子运动产生高能光 子。对于工业应用的上述辐射系统的技术性结构特征在于采用模块化平台方案。这种结构 的一个疑难问题在于整个系统的体积,例如LXBXH=1903X 1010X 1960mm3。具有如此巨大 构造的辐射系统是不可能集成到自身结构紧凑的应用形式中的,所述应用形式在空间上最 大具有辐射系统的数量级。上述的辐射系统不仅具有产生轫致辐射的电子加速器,也具有与加速器相对应的 供应系统,该供应系统通过供应管线与电子加速器相连接。全部的部件都在唯一的一个设 备内部,更确切的说,都集成在具有外罩的框架内部。供应系统包括高频产生系统以及控制 系统。对于已知的辐射系统,高频产生系统对于5微秒范围的时间产生兆瓦级别的功率。该 电子加速器产生出6兆电子伏能量范围的电子。供应管线之一例如是从供应系统通向电子 加速器的波导管,该波导管对于上述的5微秒时间提供功率在2兆瓦范围的电 ...
【技术保护点】
一种用于产生轫致辐射(8)的辐射系统(2),具有:?产生轫致辐射(8)的电子加速器(10);?在主设备(12)内配置的供应系统(14);?至少一条连接供应系统(14)和电子加速器(10)的供应管线(16a?d),其中该供应管线(16a?d)采用波导管;?在该辐射系统中,供应管线(16a?d)具有第一纵向段(26),该第一纵向段从供应系统(14)引导到在主设备(12)上配置的接头(24a?d);?并且所述电子加速器(10)被配置在主设备(12)之外;?并且通过供应管线(16a?d)的第二纵向段(28)与接头(24a?d)连接。
【技术特征摘要】
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