ZnO纳米棒阵列降解有机染料废水的应用制造技术

本发明专利技术涉及Zn片上生长的ZnO纳米棒阵列降解有机染料废水的应用，属于无机纳米材料和环境保护技术领域。使用ZnO纳米棒阵列作为降解材料，在各种环境条件（避光、可见光照射、紫外光照射）下均可高效降解水溶液中的刚果红、甲基橙等偶氮类有机染料。本发明专利技术的ZnO纳米棒阵列降解材料具有无毒害无污染、性能稳定、原料廉价易得、生产成本低、易于回收的特点，可在常温常压下降解有机染料废水，无需提供额外能量（搅拌、超声等），不受时间（白天或夜晚）和空间（室内或室外）的限制，在各种条件下都能发挥降解性能。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及Zn片上生长的ZnO纳米棒阵列降解有机染料废水的应用，属于无机纳米材料和环境保护
在各种条件(避光、可见光照射、紫外光照射)下，Zn片上生长的ZnO纳米棒阵列均能高效降解水溶液中的各种有机染料，最终产生对人体无害的物质。
技术介绍
随着印染工业的发展，染料的生产规模日益增大，种类也日益繁多。现在全世界每年大约生产80万吨的染料，染料品种已有数万种之多，包括酸性染料、阳离子染料、直接染料、分散染料、偶氮染料、活性染料和还原染料等。染料的持久性和难生物降解的特性，带来了一系列的问题。染料废水若不经过处理直接排放，将会破坏水体的生态环境，且经过生物积聚作用进入人体，最终影响人类健康。传统的工业中去除有机染料废水的方法有吸附法、生化法和混凝沉降法等。其中，吸附法处理效率高、吸附干扰小，缺点是药剂费用高、达标率较低。生化法处理费用低，对多种有机物都有处理效果，缺点是对于人工合成的大分子有机物降解效率很低，有些甚至无法运行。混凝沉降法简便、易于实施，如与氧化剂相配合，还可同时去除水中的还原性物质，缺点是容易形成废渣，对环境造成二次污染。近年来，高级氧化工艺(AOPs)是处本文档来自技高网...

【技术保护点】
Zn片上生长的ZnO纳米棒阵列降解有机染料废水的应用，其特征是使用Zn片上生长的ZnO纳米棒阵列作为降解材料，高效降解水溶液中的有机染料。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：王毓德，蔡晓燕，殷甜甜，
申请(专利权)人：云南大学，
类型：发明
国别省市：