微细凹凸图案基材、模具以及线栅偏振片制造技术

本实用新型专利技术提供一种能够降低微细凹凸图案的接合部分的高低差、光学特性优异的微细凹凸图案基材，由该微细凹凸图案基材转印得到的模具，以及包括该微细凹凸图案基材的线栅偏振片。本实用新型专利技术的微细凹凸图案基材，在表面具有周期性排列的格子状凹凸形状，且具有至少700cm2的面积，所述格子状凹凸形状包括第一微细凹凸图案部（111）、第二微细凹凸图案部（112）、以及第一微细凹凸图案部（111）和第二微细凹凸图案部（112）之间的图案接合部（113），凸部的间距为300nm以下，凸部的高度为1000nm以下。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种在表面具有格子状凹凸形状的微细凹凸图案基材，特别是涉及通过多次转印而形成的微细凹凸图案基材。
技术介绍
由于近年来的光刻技术的进步，形成具有光的波长程度的周期的微细结构(微细凹凸图案)成为可能。特别是具有Iy m以下的周期的微细凹凸图案的构件或制品不仅在半导体领域在光学领域其利用范围也比较广，是非常地有用的。例如，在基板上金属等的导电体线以特定的周期排列成格子状的线栅，如果在其周期长度比入射光(例如，可见光的波长400nm 800nm)小的情况下(例如，2分之I以下)，由于相对于导电体线平行地振动的电场矢量成分大部分被反射，垂直的电场矢量成分大部分透射，因此能够作为产生单一偏振光的线栅偏振片使用。由于这样的线栅偏振片能够反射未透射的光进行再利用，从光的有效利用的观点来看是较为理想的偏振片。特别是若能适用于在电视等的大型液晶显示装置中所使用的偏振片的话，从节能的观点来看是非常理想的。但是，以现在的光刻技术均一地制作大面积且具有波长以下的周期的微细凹凸光栅是困难的。例如，以石英等的硅系材料得到的微细凹凸母版的大小，即使是尺寸大的也仅有为通用的尺寸的直径12英寸的晶圆尺寸。作为廉价地制作线栅偏振片的方法，已知有利用纳米压印法由母版连续地制作微细凹凸图案，进一步用真空蒸镀法等在该微细凹凸图案上形成金属细线的方法。然而，由于以现有技术无法得到具有比母版大的面积的微细凹凸图案，因此也就不能作为大型液晶显示装置的偏振片使用。制作比通用的12英寸面积大的母版时，巨大的光学系统、用于保证位置精度的高级驱动系统等的设备成为新的需要，从生产成本的观点来看，产业上的利用价值较低。因此，提出有几个由小的母版制作大面积的母版的方法，例如，举例有平铺法(夕、^法)。关于平铺法，是用光聚合法(PhotoPolymerization法)等由小的母版制作多块复制版，将这些复制版切成规定的形状，并使这些复制版呈瓷砖状并排铺设且多面相连从而作成大面积的母版。然而，复制版的端面之间的高低差异、角度等的位置匹配、各复制版之间的接合部的树脂的填充的控制非常不容易，由于连接处的不良状况所引起的转印时的高低差异(毛刺)，存在有接合部被明确地分辨这样的问题。另外，提出有搭配利用uv转印法和XY载物台的分步重复法(wm、y K -j一卜法)(专利文献I)。该分步重复法中，用XY载物台对母版(模具)进行定位，依次进行向模具的树脂的填充和从模具向基板的树脂的UV转印，通过进行多次转印得到大面积的母版。然而，将分步重复法适用于大面积的图案时，在向模具和基板之间的树脂的填充过程中，树脂从模具端面溢出，如果这些溢出的树脂存在于相邻的图案之间的话，图案间的连接精度将下降。另外，一般来说，纳米压印时的树脂的扩散难以在模具端面进行控制，存在树脂向模具端面的外侧溢出而形成溢出树脂的情况。如果存在这样的溢出树脂的话，难以使相邻的照射部分之间(转印区域之间)的图案接近到所希望的距离。因此，存在制作没有视觉辨认性的大面积的图案较为困难这样的问题。另外，还提出有通过利用溢出的树脂进行再次转印使图案之间重叠转印的多面相连的凹凸图案制造方法(专利文献2)。该凹凸图案制造方法中，由于能够使形成凹凸图案的部位连续地形成，在为了抑制图案接合部的视觉辨认性方面是比其它的方法更加适宜的方法。然而，仅通过简单地涂布树脂的工序难以进行边界连续部分的高低差异的控制，因此，形成在图案接合部没有视觉辨认性的微细凹凸图案是困难的。现有技术文献专利文献专利文献1:美国专利第7077992号说明书专利文献2:日本专利第4112279号公报
技术实现思路
技术要解决的课题本技术是鉴于以上所述的问题点而研发的，其目的在于提供一种能够降低微细凹凸图案的图案接合部的高低差异、光学特性优异的微细凹凸图案基材。解决课题的手段本技术的专利技术人们为了解决上述课题进行了刻苦的研究，结果发现即使是通过多次的转印而制造的微细凹凸图案基材，通过将相邻的微细凹凸图案部之间的图案接合部的高低差抑制到与微细凹凸图案基材的凸部的高度相当，则图案接合部的高低差不会被视觉辨认光学特性优良。本技术的微细凹凸图案基材，在表面具有周期性排列的格子状凹凸形状，且具有至少700cm2的面积，所述格子状凹凸形状包括第一微细凹凸图案部、第二微细凹凸图案部，以及第一微细凹凸图案部和第二微细凹凸图案部之间的图案接合部，凸部的间距为300nm以下，凸部的高度为IOOOnm以下。本技术的微细凹凸图案基材，优选的情况为，在所述图案接合部的50%以上的区域，所述第一微细凹凸图案部和所述第二微细凹凸图案部之间的图案高低差为IOOOnm以下。本技术的微细凹凸图案基材，优选的情况为，所述微细凹凸图案基材由固化了的树脂组成物和基底基材构成。本技术的模具具有上述的微细凹凸图案基材的反转形状图案。本技术的微细凹凸图案基材，优选的情况为，所述微细凹凸图案基材具有权上述的微细凹凸图案基材的反转形状图案。本技术的线栅偏振片包括上述的微细凹凸图案基材，以及设置在该微细凹凸图案基材上的金属膜。技术的效果根据本技术能够提供一种能够降低微细凹凸图案的图案接合部分的高低差异、光学特性优异的微细凹凸图案基材。附图说明图1的(a) (d)是本技术的实施形态所涉及的微细凹凸图案基材的制造方法的第一微细凹凸图案部的制造工序的说明图。图2的(a) (d)是本技术的实施形态所涉及的微细凹凸图案基材的制造方法的第二微细凹凸图案部的制造工序的说明图。符号的说明101基底基材102、103树脂组成物111第一微细凹凸图案部112第二微细凹凸图案部113图案接合部201图案母版301刮棒涂布机具体实施方式以下，参照附图对本技术的实施形态进行详细说明。本技术所涉及的微细凹凸图案基材具有至少700cm2以上的面积，在表面上具有周期性地排列的格子状凹凸形状。微细凹凸图案基材的格子状凹凸形状，通过由图案母版的两次的转印而设置，包括设置于第I次的转印区域的第一微细凹凸图案部、设置于与第一微细凹凸图案部相邻的第2次的转印区域的第二微细凹凸图案部、以及第一微细凹凸图案部和第二微细凹凸图案部之间的图案接合部。另外，微细凹凸图案基材的格子状凹凸形状，凸部的间距为300nm以下，凸部的高度为IOOOnm以下。以下，对本技术所涉及的微细凹凸图案基材的构成进行说明。(I)微细凹凸图案基材(微细凹凸膜)本技术所涉及的微细凹凸图案基材是通过固化树脂组成物得到的。作为树脂组成物，可以例举能够忠实地转印微细凹凸图案的树脂组成物，例如，丙烯酸类、环氧类、聚氨酯类等的紫外线(UV)固化性树脂或热固化性树脂等。紫外线固化性树脂、热固化性树脂等的树脂组成物被涂布在玻璃等的无机物材料或者热塑性树脂等的基底基材上。在作为微细凹凸图案基材使用的树脂组成物中，为了调整树脂组成物的表面张力使得其与基底基材的表面张力的值接近，添加在骨架上具有亲水基、极性基的单体或添加齐U。例如，在丙烯酸类紫外线固化树脂中，为了提高亲水性添加规定量的在骨架中具有羟基的单体等，组合可以任意地实施。关于本技术所涉及的微细凹凸图案基材(微细凹凸膜)，格子状凹凸形状具有周期结构，只要周期的间本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种微细凹凸图案基材，其特征在于，在表面具有周期性排列的格子状凹凸形状，且具有至少700cm2的面积，所述格子状凹凸形状包括第一微细凹凸图案部、第二微细凹凸图案部，以及第一微细凹凸图案部和第二微细凹凸图案部之间的图案接合部，凸部的间距为300nm以下，凸部的高度为1000nm以下。

【技术特征摘要】
1.一种微细凹凸图案基材，其特征在于，在表面具有周期性排列的格子状凹凸形状，且具有至少700cm2的面积，所述格子状凹凸形状包括第一微细凹凸图案部、第二微细凹凸图案部，以及第一微细凹凸图案部和第二微细凹凸图案部之间的图案接合部，凸部的间距为300nm以下，凸部的高度为IOOOnm以下。2.如权利要求1所述的微细凹凸图案基材，其特征在于，在所述图案接合部的50%以上的区域，所述第一微细凹凸图案部和所述第二微细凹凸图案部之间的图案高低差为IOOOnm以下。...

【专利技术属性】
技术研发人员：河津泰幸，吉冈邦久，木下大辅，佐藤祐辅，
申请(专利权)人：旭化成电子材料株式会社，
类型：实用新型
国别省市：