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保湿、透气、抗辐射、抗拉人造革制造技术

技术编号:8831047 阅读:133 留言:0更新日期:2013-06-22 18:27
本发明专利技术涉及一种保湿、透气、抗辐射、抗拉人造革,其特征在于所述人造革从下往上依次由基质层(1)、粘合层(2)、加强层(3)、粘合层(2)和面层(4)组成,所述加强层(4)以芳纶1313和芳纶114与抗静电棉混纺而成。本发明专利技术由于基质层和面层中还设有纺织物和纤维组成的加强层,可以增加人造革的抗拉性能,获得良好的弹性和张力,不易断裂,满足多领域使用。且保湿、透气和抗辐射功能。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种人造革。
技术介绍
市场上出售的人造革一般是由基质层、粘合层和面层组成,具有比较差的抗拉性能,容易断裂,性能上难以满足人们日益提高的质量要求。且不具有保湿、透气、抗辐射功倉泛。
技术实现思路
本专利技术的目的在于克服上述不足,提供一种不易断裂的保湿、透气、抗辐射、抗拉人造革。本专利技术的目的是这样实现的:一种保湿、透气、抗辐射、抗拉人造革,从下往上依次由基质层、粘合层、加强层、粘合层和面层组成,所述加强层以芳纶1313和芳纶114与抗静电棉混纺而成。与现有技术相比,本专利技术的有益效果是: 1、本专利技术由于基质层和面层中还设有纺织物和纤维组成的加强层,可以增加人造革的抗拉性能,获得良好的弹性和张力,不易断裂,满足多领域使用。2、不仅具有保湿、透气的效果,而且具有良好的抗辐射性能,增强了其使用的舒适度和安全性。附图说明图1为本专利技术的结构示意图。其中: 基质层I 粘合层2 面层3 加强层4。具体实施例方式参见图1,本专利技术涉及的一种保湿、透气、抗辐射、抗拉人造革,从下往上依次由基质层1、粘合层2、加强层3、粘合层2和面层4组成,所述加强层4以芳纶1313和芳纶114与抗静电棉混纺而成。

【技术保护点】
一种保湿、透气、抗辐射、抗拉人造革,其特征在于所述人造革从下往上依次由基质层(1)、粘合层(2)、加强层(3)、粘合层(2)和面层(4)组成,所述加强层(4)以芳纶1313和芳纶114与抗静电棉混纺而成。

【技术特征摘要】
1.一种保湿、透气、抗辐射、抗拉人造革,其特征在于所述人造革从下往上依次由基质层(I)、粘合层(2)、加...

【专利技术属性】
技术研发人员:刘小芳
申请(专利权)人:刘小芳
类型:发明
国别省市:

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