用于建立辐射规划的方法以及用于施加位置分辨的辐射剂量的方法技术

本发明专利技术涉及一种用于建立对于辐射产生装置（14）的辐射规划的方法（1，2）。辐射规划具有多个辐射位置（33），其至少部分地和/或至少暂时地与在应用（12）辐射规划的时刻可以出现的至少一个框架参数（29）相关。在建立（1）辐射规划时更强地考虑辐射位置（33）的如下部分：在所述部分中以更高的可能性预计与至少一个框架参数（29）的相关性。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种用于建立对于辐射产生装置的辐射规划的方法。本专利技术还涉及一种用于在使用至少一个辐射产生装置的条件下在至少一个辐射位置施加位置分辨的辐射剂量的方法。此外，本专利技术涉及一种用于建立辐射规划的装置、一种用于控制至少一个辐射产生装置的装置，以及一种辐射产生装置，其具有至少一个用于控制辐射产生装置的装置。
技术介绍
目前在不同的领域使用辐射物体的技术。根据具体的应用要求，在此使用不同的辐射方法以及不同的辐射种类(例如光子辐射、粒子辐射等)。在该技术的一些领域中例如要求，平面地或空间地照射物体，其中辐射应当尽可能均匀起作用。例如当要使材料变硬或以其他方式改变其材料特征时呈现该要求。在食品
中也变得通常的是，使用特定的辐射种类来保持食品。而在该技术的其他领域要求，以特定的、典型地是特别高的剂量来照射待照射的物体的仅特定的区域，而物体的其余部分不应当或尽可能少地被照射。对此的一个例子是在使用电磁辐射(部分地直到X射线范围以及之外)以及成像的掩模的条件下对微处理器的或其他的微结构或纳米结构的结构化。位置上不同的剂量分布在此不一定仅二维结构化地进行，而是在一些
中也在本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：C伯特，R卢克滕伯格，
申请(专利权)人：GSI亥姆霍兹重离子研究中心有限责任公司，
类型：
国别省市：