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本发明涉及一种用于建立对于辐射产生装置（14）的辐射规划的方法（1，2）。辐射规划具有多个辐射位置（33），其至少部分地和/或至少暂时地与在应用（12）辐射规划的时刻可以出现的至少一个框架参数（29）相关。在建立（1）辐射规划时更强地考虑辐...该专利属于GSI亥姆霍兹重离子研究中心有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过GSI亥姆霍兹重离子研究中心有限责任公司授权不得商用。
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本发明涉及一种用于建立对于辐射产生装置（14）的辐射规划的方法（1，2）。辐射规划具有多个辐射位置（33），其至少部分地和/或至少暂时地与在应用（12）辐射规划的时刻可以出现的至少一个框架参数（29）相关。在建立（1）辐射规划时更强地考虑辐...