【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及电学层析成像领域,尤其涉及一种新的基于二端子激励测量模式的电压-电流映射构造方法。
技术介绍
电学层析成像(Electrical Tomography,简称ET)技术是层析成像技术的一种。其通过对被测物体施加激励,并检测其边界值的变化,利用特定的重建算法重建被测对象内部电特性参数的分布,从而得到物体内部的分布情况。与其他层析成像技术相比,电学层析成像具有无福射、响应速度快、价格低廉等优势。电学层析成像重建算法一般可分为两类:基于灵敏度矩阵的重建算法和直接重建算法。使用前者通常需要解病态线性方程,这就意味着必须同时重建测量区域的所有像素值。后者通过计算电流-电压映射或者电压-电流映射来实现,每个像素点的灰度值可以直接、独立的计算。二端子激励测量模式适用于阻抗测量,电容和电导信息可以由抗杂散电容电路同时获得。二端子激励测量模式是电学层析成像中一种重要的测量模式,然而目前还没有基于二端子激励测量模式的电压-电流映射的直接构造方法。
技术实现思路
本专利技术的技术方案是:步骤一、当具有N个电极的传感器处于相邻激励测量模式时,如果单位电流从第i (I≤i≤N)个电极流入被测场域,第i+Ι个电极流出,则第k个电极(I≤k≤N)的电势C;,和第k+i个电极的电势C11之间的差满足方程:
【技术保护点】
一种基于二端子激励测量模式的电压?电流映射构造方法,其特征在于,该方法包括下述步骤:步骤一、当具有N个电极的传感器处于相邻激励测量模式时,如果单位电流从第i(1≤i≤N)个电极流入被测场域,从第i+1个电极流出,则第k个电极(1≤k≤N)的电势和第k+1个电极的电势之间的差满足方程:Ui,i+1k+1-Ui,i+1k=Zi,i+1k,k+1---(1)是单位电流从第i个电极流入被测场域,从第i+1个电极流出时,第i和i+1个电极与第k和k+1个电极之间的互阻抗,进而有:Ui,i+1k=Ui,i+1k+1-Zi,i+1k,k+1=Ui,i+11-Σm=0N-kZi,i+1k+m,k+m+1---(2)选择合适的接地方式,满足即所有电极电势之和为0,可推导出:Σk=1N(Ui,i+11-Σm=0N-kZi,i+1k+m,k+m+1)=0---(3)Ui,i+11=1NΣk=1NkZi,i+1k,k+1---(4)Σk=1NZi,i+1k,k+1=0---(5)的一般形式为:Ui,i+1k=1NΣn=1N-1nZi,i+ ...
【技术特征摘要】
1.一种基于二端子激励测量模式的电压-电流映射构造方法,其特征在于,该方法包括下述步骤: 步骤一、当具有N个电极的传感器处于相邻激励测量模式时,如果...
【专利技术属性】
技术研发人员:曹章,徐立军,孙世杰,黄驰,
申请(专利权)人:北京航空航天大学,
类型:发明
国别省市:
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