半导体行业工厂节水用水系统技术方案

本发明专利技术为一种半导体行业工厂节水用水系统，其特征在于：所述的节水用水系统首先对原水（市政自来水）采用离子交换剂作软化处理，经软化后的水进入超纯水UPW系统，大部分制成超纯水供企业半导体生产用水；超纯水UPW系统的排水进入第一收集槽后分为三路利用，一路供企业冷却塔系统补水用，一路供企业生活区冲厕所用，还有一路供给预处理过滤器的反冲洗用，所述半导体生产用水经使用后的排水进入第二收集槽进行膜过滤将固液分离，膜过滤后的水回收作为超纯水UPW系统中的第二级反渗透补给水。本发明专利技术采用运筹学这一数学和社会科学交叉的学科理论，从水量平衡和适用水质角度建立水资源管理模型，实现水资源的重复利用。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种节水用水工程，特别是公开一种半导体行业工厂节水用水系统，改变了传统的末端净化处理回用节水技术，是一种有益环境的节约用水系统。本专利技术涉及纯水处理、研磨废水处理和节水管理数学模型等领域，是当今符合国家重点支持的高新
和当前优先发展的高新技术产业化重点领域的关键技术。
技术介绍
当今微电子信息技术水平的高低已被视为一个国家现代化水平的重要标志。单晶硅(Si)材料是半导体工业的基础，在高速发展的微电子信息(IC)产业和太阳能光伏(PV)产业中，据不完全统计，6晶圆耗水I吨/片，8晶圆和12晶圆耗水量分别为3吨/片和12吨/片，同时切割(Wafersaw)和减薄(Granding)过程中还会产生含大量高浓度娃粉的乳白色或黑色混浊废水，其中悬浮物(SS)高达400-600mg/L，平均粒径0.19 μ m,高消耗、高污染已经成为妨碍这一行业发展的瓶颈，众多企业纷纷在寻求节水和减排的有效方法和途径，但是节水率一般也只有30%左右，纯水回收率不超过60%。研究一种经济合理的一水多用和硅粉分离技术，不仅可以提高节约用水率，还可以减少污染物排放，并实现资源回用，将大大降低企本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种半导体行业工厂节水用水系统，其特征在于：所述的节水用水系统首先对原水采用离子交换剂作软化处理，经软化后的水进入超纯水UPW系统，大部分制成超纯水供企业半导体生产用水；超纯水UPW系统的排水进入第一收集槽后分为三路利用，一路供企业冷却塔系统补水用，一路供企业生活区冲厕所用，还有一路供给预处理过滤器的反冲洗用，所述半导体生产用水经使用后的排水进入第二收集槽进行膜过滤将固液分离，膜过滤后的水回收作为超纯水UPW系统中的第二级反渗透器补给水。

【技术特征摘要】
1.一种半导体行业工厂节水用水系统，其特征在于:所述的节水用水系统首先对原水采用离子交换剂作软化处理，经软化后的水进入超纯水UPW系统，大部分制成超纯水供企业半导体生产用水；超纯水UPW系统的排水进入第一收集槽后分为三路利用，一路供企业冷却塔系统补水用，一路供企业生活区冲厕所用，还有一路供给预处理过滤器的反冲洗用，所述半导体生产用水经使用后的排水进入第二收集槽进行膜过滤将固液分离，膜过滤后的水回收作为超纯水UPW系统中的第二级反渗透器补给水。2.根据权利要求1所述的半导体行业工厂节水用水系统，其特征在于:所述固液分...

【专利技术属性】
技术研发人员：丁少华，孙叶凤，
申请(专利权)人：上海华强环保设备工程有限公司，
类型：发明
国别省市：