液浸构件、液浸构件的制造方法、曝光装置、及元件制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种液浸构件、液浸构件的制造方法、曝光装置、及元件制造方法，该液浸构件(6)，是以液体(LQ)充满照射于物体的曝光用光(EL)的光路(K)的方式在与前述物体之间保持液体(LQ)以形成液浸空间(LS)。液浸构件(6)，于与液体(LQ)接触的区域的至少一部分形成有碳为主成分的非晶碳膜。通过本发明专利技术，能够抑制曝光不良的产生，从而能抑制不良元件的产生及生产性的降低的问题。

【技术实现步骤摘要】
本申请是申请日为2010年12月21日，申请号为201080056237.1，专利技术名称为“液浸构件、液浸构件的制造方法、曝光装置、及元件制造方法”的专利申请的分案申请。
本专利技术是关于液浸构件、液浸构件的制造方法、曝光装置、及元件制造方法。
技术介绍
在微影工艺使用的曝光装置中，已知有例如下述专利文献揭示的经由液体以曝光用光使基板曝光的液浸曝光装置。[现有技术文献][专利文献1]美国专利技术专利申请公开第2008／266533号[专利文献2]美国专利技术专利申请公开第2005／018155号
技术实现思路
液浸曝光装置中，在基板等物体上形成有液浸区域的状态下，基板表面上的光阻或顶涂膜所含的成分有时会溶出至液体(例如纯水)。因此，有溶出至液体(纯水)中的光阻或顶涂膜成分再析出至形成液浸区域的构件表面，此析出物因液流(水流)剥离而附着于基板的可能性。在使附着有析出物的基板曝光后，例如有可能产生形成于基板的图案有缺陷产生等曝光不良，而产生不良元件。进而，有时亦有混入液体的异物附着于形成液浸区域的构件，在此附着的异物再度混入液体的状态下使基板曝光的情形。因此，虽产生定期洗净形成液浸区域的构件以除去表面的析出物的必要，但若洗净的频度、时间增加则有生产性降低的可能性。本专利技术的态样，其目的在于提供能抑制曝光不良的产生及生产性的降低的液浸构件、液浸构件的制造方法及曝光装置。又，另一目的在于，提供能抑制不良元件的产生及生产性的降低的元件制造方法。根据本专利技术的第1态样，提供一种液浸构件，是以液体充满照射于物体的曝光用光的光路的方式在与前述物体之间保持前述液体以形成液浸空间，其特征在于：在与前述液体接触的区域的至少一部分形成有非晶碳膜。根据本专利技术的第2态样，提供一种液浸构件的制造方法，该液浸构件是以液体充满照射于物体的曝光用光的光路的方式在与前述物体之间保持前述液体以形成液浸空间，其特征在于：于前述液浸构件与前述液体接触的区域的至少一部分上，藉由CVD法(化学气相沉积法)或PVD法(物理气相沉积法)形成非晶碳膜。根据本专利技术的第3态样，提供一种曝光装置，是经由液体以曝光用光使基板曝光，其特征在于，具备：第1态样的液浸构件。根据本专利技术的第4态样，提供一种元件制造方法，包含：使用上述态样的曝光装置使基板曝光的步骤；以及使已曝光的前述基板显影的步骤。根据本专利技术的态样，能提供能抑制曝光不良的产生及生产性的降低的液浸构件、液浸构件的制造方法及曝光装置。又，根据本专利技术的态样，能提供能抑制不良元件的产生及生产性的降低的元件制造方法。附图说明图1是显示曝光装置的概略构成图。图2是显示液浸构件附近的侧剖面图。图3A是显示FCVA成膜装置一例的概略构成图。图3B是用以说明液浸构件的制造方法之图。图3C是用以说明液浸构件的制造方法之图。图4A是用以说明多孔构件一例之图。图4B是用以说明多孔构件一例之图。图4C是用以说明多孔构件一例之图。图5是显示液浸构件附近的侧剖面图。图6是显示液浸构件附近的侧剖面图。图7是显示液浸构件附近的侧剖面图。图8是显示微形元件工艺的一例的流程图。图9A是显示于实施例成膜的ta－C膜的膜厚分布的图表。图9B是显示于实施例成膜的ta－C膜的膜厚分布的图表。具体实施方式以下，参照图式说明本专利技术的实施形态，但本专利技术不限定于此。此外，以下的说明中，是设定XYZ正交座标系，并参照此XYZ正交座标系说明各构件的位置关系。接着，将水平面内的既定方向设为X轴方向、将于水平面内与X轴方向正交的方向设为Y轴方向、将与X轴方向及Y轴方向分别正交的方向(亦即铅直方向)设为Z轴方向。此外，并将绕X轴、Y轴及Z轴的旋转(倾斜)方向分别设为θX、θY及θZ方向。＜第1实施形态＞说明第1实施形态。图1是显示第1实施形态的曝光装置EX的一例的概略构成图。图1中，曝光装置EX具备：可保持掩膜M并移动的掩膜载台1、可保持基板P并移动的基板载台2、移动掩膜载台1的第1驱动系统1D、移动基板载台2的第2驱动系统2D、能测量掩膜载台1及基板载台2各自的位置信息的干涉仪系统3、以曝光用光EL照明掩膜M的照明系IL、将以曝光用光EL照明的掩膜M的图案像投影至基板P的投影光学系PL、以及控制曝光装置EX整体的动作的控制装置4。掩膜M，包含形成有待投影至基板P的元件图案的标线片。掩膜M，包含例如于玻璃板等透明板上使用铬等遮光膜形成有既定图案的透射型掩膜。此外，掩膜M亦可使用反射型掩膜。基板P是用以制造元件的基板。基板P包含于例如硅晶圆的半导体晶圆等基材形成有感光膜者。感光膜是感光材(光阻)的膜。又，基板P亦可包含与感光膜不同的膜。例如，基板P亦可包含反射防止膜，亦可包含保护感光膜的保护膜(顶涂膜)。本实施形态的曝光装置EX，是经由液体LQ以曝光用光EL使基板P曝光的液浸曝光装置。曝光装置EX，具备能以液体LQ充满曝光用光EL的光路K的至少一部分的方式形成液浸空间LS的液浸构件6。液浸空间LS是以液体LQ充满的空间。本实施形态中，是使用水(纯水)作为液体LQ。本实施形态中，液浸空间LS是形成为以液体LQ充满从投影光学系PL的多个光学元件中最接近投影光学系PL的像面的终端光学元件5射出的曝光用光EL的光路K。终端光学元件5具有朝向投影光学系PL的像面射出曝光用光EL的射出面5U。液浸空间LS是形成为以液体LQ充满终端光学元件5与和该终端光学元件5的射出面5U对向的位置所配置的物体之间的光路K。与射出面5U对向的位置，包含从射出面5U射出的曝光用光EL的照射位置。液浸构件6配置于终端光学元件5的附近。液浸构件6具有下面7。本实施形态中，能与射出面5U对向的物体能与下面7对向。在物体表面配置于与射出面5U对向的位置时，下面7的至少一部分与物体表面对向。在射出面5U与物体表面对向时，能将液体LQ保持于射出面5U与物体表面之间。又，在液浸构件6的下面7与物体表面对向时，能将液体LQ保持于下面7与物体表面之间。藉由保持于一方侧的射出面5U及下面7与另一方侧的物体表面之间的液体LQ形成液浸空间LS。本实施形态中，能与射出面5U及下面7对向的物体包含能在终端光学元件5的射出侧(像面侧)移动的物体，包含能移动至与射出面5U及下面7对向的位置的物体。本实施形态中，该物体包含基板载台2及保持于基板载台2的基板P的至少一本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种液浸构件，是以液体充满照射于物体的曝光用光的光路的方式在与所述物体之间保持所述液体以形成液浸空间，其特征在于：在与所述液体接触的区域的至少一部分形成有碳为主成分的非晶碳膜。

【技术特征摘要】
2009.12.28 US 61/282,1821.一种液浸构件，是以液体充满照射于物体的曝光用光的光路的方式在与
所述物体之间保持所述液体以形成液浸空间，其特征在于：
在与所述液体接触的区域的至少一部分形成有碳为主成分的非晶碳膜。
2.如权利要求1所述的液浸构件，其特征在于，所述液浸构件具备设于所
述曝光用光的光路周围、吸引对向物体上的液体加以回收的液体回收区域。
3.如权利要求2所述的液浸构件，其特征在于，于所述液体回收区域与所
述液体接触的区域的至少一部分形成有碳为主成分的非晶碳膜。
4.如权利要求2或3所述的液浸构件，其特征在于，所述液体回收区域包
含多孔构件的表面。
5.如权利要求4所述的液浸构件，其特征在于，所述多孔构件具有贯通孔。
6.如权利要求4或5所述的液浸构件，其中，所述物体上的液体的至少一
部分是通过所述多孔构件回收。
7.如权利要求4至6中任一项所述的液浸构件，其特征在于，于所述多孔
构件的表面及设于所述多孔构件的多个贯通孔内壁面形成有碳为主成分的非
晶碳膜。
8.如权利要求7所述的液浸构件，其特征在于，所述多孔构件的表面或所
述贯通孔内壁面的至少一部分对所述液体为亲液性。
9.如权利要求7或8所述的液浸构件，其特征在于，所述多孔构件的表面
或所述贯通孔内壁面的至少一部分对所述液体为拨液性。
10.如权利要求9所述的液浸构件，其特征在于，所述多孔构件的表面对
所述液体为拨液性；
所述多孔构件的所述贯通孔的内壁面对所述液体为亲液性。
11.如权利要求1至10中任一项所述的液浸构件，其特征在于，形成有所
述非晶碳膜的区域的至少一部分对所述液体为亲液性。
12.如权利要求1至11中任一项所述的液浸构件，其特征在于，所述非晶
碳膜是四面体非晶碳膜。
13.如权利要求1至12中任一项所述的液浸构件，其特征在于，所述液浸
构件包含钛制的构件。
14.一种液浸构件的制造方法，所述液浸构件是以液体充满照射于物体的
曝光用光的光路的方式在与所述物体之间保持所述液体以形成液浸空间，其
特征在于：
于所述液浸构件与所述液体接触的区域的至少一部分上，通过化学气相
沉积法或物理气相沉积法形成碳为主成分的非晶碳膜。
15.如权利要求14所述的液浸构件...

【专利技术属性】
技术研发人员：泷优介，
申请(专利权)人：株式会社尼康，
类型：发明
国别省市：