在地下井中使用的自释放插塞制造技术

一种在地下井中使用的流动控制系统，其可包括：流室，流体成分流经流室；以及插塞，其响应流体成分中期望流体与不期望流体之比的增大而被释放。另一流动控制系统可包括：流室，流体成分流经流室；插塞；以及结构，其支撑插塞，但响应该结构由于流体成分而产生的退化退化，该结构释放插塞。又一流动控制系统可包括：流室，流体成分流经流室；以及插塞，其响应流室中的流体成分的速度的增大而被释放。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术大体涉及与地下井结合使用的设备和执行的操作，而在以下描述的示例中，更具体地提供一种具有自释放插塞的流动控制系统。
技术介绍
在产烃井(hydrocarbon production well)中，能够调节从地层进入井眼内的流体流动是非常有益的。这种调节可服务于多种目的，包括阻止水或气锥、最小化产砂量、最小化产水量、最大化产油量、在多个带(zone)之间平衡产量，等等。在注入井中，典型地期望将水、蒸汽、气体等均匀地注入到多个带中，使得烃均匀地通过地层移动，而被注入的流体不会过早地穿透到生产井眼。因此，对于注入井来说，调节流体从井眼流入地层的能力也是有益的。因此应理解，在上述情况下，在井中控制流体流动的领域中的进步是符合期望的，并且这类进步在大量的其他情况下也将是有益的。
技术实现思路
在以下公开的内容中，提供一种流动控制系统，其为调节井中流体流动的
带来改进。以下描述了一个示例，其中，流动控制系统与可变流阻系统相结合而使用。以下还描述了另一示例，其中，流动控制系统与流入控制装置相结合而使用。在一个方案中，本专利技术为本
提供了 一种在地下井中使用的流动控制系统。该系统本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2010.09.14 US 12/881,2961.一种在地下井中使用的流动控制系统，所述系统包括: 流室，流体成分流经所述流室；以及 插塞，其响应流体成分中的不期望流体与期望流体之比的增大而被释放。2.根据权利要求1所述的系统，其中，所述插塞响应不期望流体与期望流体之比的增大而被自动地释放。3.根据权利要求1所述的系统，其中，不期望流体与期望流体之比的增大引起支撑所述插塞的结构的退化。4.根据权利要求1所述的系统，其中，不期望流体与期望流体之比的增大引起支撑所述插塞的结构的腐蚀。5.根据权利要求1所述的系统，其中，不期望流体与期望流体之比的增大引起支撑所述插塞的结构的侵蚀。6.根据权利要求1所述的系统，其中，不期望流体与期望流体之比的增大引起支撑所述插塞的结构的破损。7.根据权利要求1所述的系统，其中，所述插塞在被释放时阻止通过所述流室的流动。8.根据权利要求1所述的系统，其中，所述插塞在被释放时阻止从所述流室的入口到出口的流动。9.根据权利要求1所述的系统，其中，流体成分中的不期望流体与期望流体之比的增大源于流体成分中水的增加。10.根据权利要求1所述的系统，其中，流体成分中的不期望流体与期望流体之比的增大导致所述流室中的流体成分的速度的增大。11.根据权利要求1所述的系统，其中，流体成分中的不期望流体与期望流体之比的增大源于所述流体成分中的气体的增加。12.一种在地下井中使用的流动控制系统，所述系统包括: 流室，流体成分流经所述流室； 插塞；以及 结构，其支撑所述插塞，但响应所述结构由于流体成分而产生的退化，所述结构释放所述插塞。13.根据权利要求12所述的系统，其中，所述结构响应流体成分中的不期望流体与期望流体之比的增大而退化。14.根据权利要求12所述的系统，其中，所述插塞响应所述结构的退化而被自动地释放。15.根据权利要求12所述的系统，其中，流体成分中的不期望流体与期望流体之比的增大引起所述结构...

【专利技术属性】
技术研发人员：贾森·D·戴克斯特拉，约翰·C·加诺，
申请(专利权)人：哈利伯顿能源服务公司，
类型：
国别省市：