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一种在地下井中使用的流动控制系统，其可包括：流室，流体成分流经流室；以及插塞，其响应流体成分中期望流体与不期望流体之比的增大而被释放。另一流动控制系统可包括：流室，流体成分流经流室；插塞；以及结构，其支撑插塞，但响应该结构由于流体成分而产生...
该专利属于哈利伯顿能源服务公司所有，仅供学习研究参考，未经过哈利伯顿能源服务公司授权不得商用。

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