一种消影高透过率OGS用玻璃及其制造方法技术

本发明专利技术公开了一种消影高透过率OGS用玻璃以及制造方法，该制作方法工艺分为三种，制造出的OGS用玻璃为单片玻璃结构，同时起到保护玻璃和触摸传感器的双重作用，其包括基板、绝缘边框、功能层、ITO导电膜，该绝缘边框、功能层、ITO导电膜都通过镀膜技术镀在基板上，本发明专利技术适用于OGS类的触摸屏设计，其在设计与制造成本上与现有技术相比，能够更好的达到消影效果，使其消影效果更加容易控制；在玻璃的后表面再增加功能层，可提高产品的透光率，拓宽产品的阻值范围(15-300欧姆)，在强光下改善了产品的显示效果。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及触摸屏行业，主要应用在电容屏方面，主要是指一种消影高透过率OGS(One glass solution)用玻璃及其制造方法。
技术介绍
现有OGS用玻璃的一种结构为:Glass/BM/IT0(氧化铟锡)，其中BM为绝缘边框，ITO是导电层，这种结构在蚀刻成图案以后，ITO电极线看的非常明显，影响触摸屏的外观。另一种OGS用ITO导电玻璃的结构为:Glass/BM//Nb2o5/Si02/IT0，其中BM为绝缘边框，ITO是导电层，作为触摸屏的电极及传感层，Nb2o5/Si02层为消影层，其主要功能是消除ITO蚀刻后的痕迹，有ITO和没有ITO的地方膜层反射率在0.5%以内，这样在人的视觉来看，在显示屏上不容易看见ITO线条。但是以上两种玻璃在做成触摸屏后，第一种的ITO线条能够很清晰的看到，第二种虽然ITO线条经过消影层已经淡化，但是两种产品在太阳强光下，由于整个膜层的透过率比较低，只有88%左右，如果电阻值更低的话，透过率还会更低，导致反射率高，因此在强光下很难看清楚屏幕上的图案。传统触摸屏是由两片玻璃对贴组成(一片玻璃做为触摸传感器，一片玻璃做为保护玻璃，称为G/G结构)，这样增加了触摸屏的厚度和重量；
技术实现思路
本专利技术解决上述问题提供一种减轻了重量，提高了透光率，消除了 ITO导电线条底影的触摸屏及制作方法。为解决上述问题，本专利技术通过以下方案来实现:一种消影高透过率OGS用玻璃，该OGS用玻璃为单片玻璃结构，同时起到保护玻璃和触摸传感器的双重作用，其包括基板、绝缘边框、功能层、ITO导电膜，该绝缘边框、功能层、ITO导电膜都通过镀膜技术镀在基板上，功能层是由五氧化二铌膜和二氧化硅膜两种膜组成，功能层都是通过先镀一层五氧化二铌膜，后镀一层二氧化娃膜。优选地，所述基板的前表面镀有绝缘边框，所述绝缘边框上镀有五氧化二铌膜，五氧化二银膜镀有二氧化娃膜，该二氧化娃膜镀有ITO导电膜,该基板的后表面镀有五氧化二铌膜，五氧化二铌膜镀有二氧化硅膜。优选地，所述基板的前表面镀有五氧化二铌膜，五氧化二铌膜镀有二氧化硅膜，二氧化硅膜镀有绝缘边框，该绝缘边框镀有ITO导电膜，该基板的后表面镀有五氧化二铌膜，五氧化二铌膜镀有二氧化硅膜。优选地，所述基板的前表面镀有五氧化二铌膜，五氧化二铌膜镀有二氧化硅膜，二氧化硅膜镀有ITO导电膜，该ITO导电膜镀有绝缘边框，该该基板I的后表面镀有五氧化二铌膜，五氧化二铌膜镀有二氧化硅膜。优选地，所述基板的前表面镀有的功能层为消影功能层，后表面镀有的功能层为增透减反功能层。一种消影高透过率OGS用玻璃制造方法，该方法工艺分为三种工艺制作流程，第一种工艺制作流程，绝缘边框镀在基板前表面的前表面的功能层和ITO膜层之前，为第一道工序；则前表面的镀膜制程全部采用低温镀膜；第二种工艺制作流程，绝缘边框镀在基板前表面的功能层和ITO膜之间，则功能层采用高温方式或者低温方式生产均可，ITO膜层需要采用低温镀膜；第三种工艺制作流程，绝缘边框镀在基板前表面前表面的功能层和ITO膜层之后，则镀膜制程完全可采取高温镀膜来完成。优选地，所述第一种工艺的具体流程如下:a、玻璃基板清洗；b、制作绝缘边框绝缘边框图案，绝缘边框边框在基板前表面；C、带有绝缘边框的基板进行镀膜前清洗；d、将清洗干净的基板装在基片架上送入镀膜线的真空腔体内；先对基板的后表面进行镀膜加工，依次镀一层Nb2O5膜,一层SiO2膜；或依次镀一层Nb2O5膜,一层SiO2膜,再镀一层Nb2O5膜,一层SiO2膜；e、玻璃的后表面镀完膜后,对玻璃的前表面进行镀膜,依次镀一层Nb2O5膜,一层SiO2膜；或依次镀一层Nb2O5膜,一层SiO2膜,再镀一层Nb2O5膜,一层SiO2膜,最后再镀一层ITO导电膜3 ;f、在镀膜机中将玻璃取出，进行检验测试，合格入库。此种方案ITO采用低温镀膜。优选地，所述第二种工艺的具体流程如下:a、玻璃基板清洗；将清洗干净的玻璃基板装在基片架上送入镀膜线的真空腔体内；先对玻璃基板的后表面进行镀膜加工，依次镀一层Nb2O5膜，一层SiO2膜；或依次镀一层Nb2O5膜,一层SiO2膜，再镀一层Nb2O5膜,一层SiO2膜；b、玻璃的后表面镀完膜后,对玻璃的前表面进行镀膜,依次镀一层Nb2O5膜,一层SiO2膜；或依次镀一层Nb2O5膜,一层SiO2膜,再镀一层Nb2O5膜,一层SiO2膜；C、然后从镀膜机中取出，再次清洗；d、在基板前表面制作绝缘边框；e、制作完绝缘边框，再次进入镀膜前清洗，镀最后一层ITO导电膜；f、在镀膜机中将玻璃取出，进行检验测试，合格入库。此第二种工艺ITO采用低温镀膜。优选地，所述第三种工艺的具体流程如下:a、玻璃基板清洗；b、将清洗干净的玻璃基板装在基片架上送入镀膜线的真空腔体内；先对玻璃基板的后表面进行功能层镀膜加工，先对玻璃基板的后表面进行镀膜加工，依次镀一层Nb2O5膜，一层SiO2膜；或依次镀一层Nb2O5膜,一层SiO2膜,再镀一层Nb2O5膜,一层SiO2膜；C、玻璃的后表面镀完膜后,对玻璃的前表面进行镀膜,依次镀一层Nb2O5膜,一层SiO2膜；或依次镀一层Nb2O5膜,一层SiO2膜,再镀一层Nb2O5膜,一层SiO2膜,最后再镀一层ITO导电膜；d、然后从镀膜机中取出，再次清洗；e、在基板前表面制作绝缘边框；f、进行检验测试，合格入库。优选地，所述的方法工艺是在玻璃前表面或者后表面再增加功能层，就可以在保证和提高现有功能的前提下，使得ITO膜层的电阻值范围可达到15-300欧姆。玻璃前表面的Nb2O5层和SiO2层的功能是达到消影的效果，即保证ITO线条刻蚀后没有明显的影子，有ITO膜的地方和蚀刻掉ITO膜的地方低色接近，外观视觉效果好，玻璃后表面的Nb2O5层和SiO2层的功能是进行增透减反射的作用，提高整个触摸屏的透光率，减少反射率，这样使得触摸屏在太阳光下也可以清晰的显示。传统技术通过前表面的功能层可以达到消除底影的效果，透光率一般在88% (所有的透过率均指除了 BM绝缘边框的显示区域膜层的透过率)，如果ITO电阻值较低的话，还会使透光率进一步降低，因此其整个表面的反射率高，使得在强光下图案不清晰，本专利技术的技术在玻璃背面再增加功能层，达到一个增透减反的作用，使得玻璃整个表面的透光率可增加到93%以上，如果在玻璃的前表面采用4层功能层，则整体的消影效果将比2层功能层的消影效果更加容易控制，可以在较宽的波长范围内达到很好的消影效果，若同时在后表面也采用4层功能层，则会使得采用该玻璃制备成的OGS触摸屏透光率更高，在强光下使用，即可以消除底影，又可以很清晰的看到屏幕图案。传统技术仅单面采用2层功能层来达到消影效果的膜系结构，其表面的ITO电阻一般会比较高，如果降低电阻值，则会使整体透光率更低，而且很难达到满意的消影效果，因此这种传统结构的电阻值一般在60欧姆以上，不太适合对线性电阻要求更高的触摸屏，这类触摸屏需要更低电阻值。在玻璃前表面或者后表面再增加功能层，就可以在保证和提高现有功能的前提下，使得ITO膜层的电阻值向更低趋势发展，可低至15欧姆，这样可以获得电学性能和光学性能更加优良的触摸屏。本专利技术适用于OGS类的触摸屏设计，其在设计与制造成本上本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种消影高透过率OGS用玻璃，其特征在于：该OGS用玻璃为单片玻璃结构，同时起到保护玻璃和触摸传感器的双重作用，其包括基板(1)、绝缘边框(2)、功能层、ITO导电膜(3)，该绝缘边框(2)、功能层、ITO导电膜(3)都通过镀膜技术镀在基板(1)上，功能层是由五氧化二铌膜(4)和二氧化硅膜(5)两种膜组成，功能层都是通过先镀一层五氧化二铌膜(4)，后镀一层二氧化硅膜(5)。

【技术特征摘要】
1.种消影高透过率OGS用玻璃，其特征在于:该OGS用玻璃为单片玻璃结构，同时起到保护玻璃和触摸传感器的双重作用，其包括基板(I)、绝缘边框(2)、功能层、ITO导电膜(3)，该绝缘边框(2)、功能层、ITO导电膜(3)都通过镀膜技术镀在基板⑴上，功能层是由五氧化二铌膜(4)和二氧化硅膜(5)两种膜组成，功能层都是通过先镀一层五氧化二铌膜(4),后镀一层二氧化娃膜(5)。2.据权利要求1所述的一种消影高透过率OGS用玻璃，其特征在于:所述基板(I)的前表面镀有绝缘边框(2)，所述绝缘边框(2)上镀有五氧化二铌膜(4)，五氧化二铌膜(4)镀有二氧化娃膜(5),该二氧化娃膜(5)镀有ITO导电膜(5),该基板⑴的后表面镀有五氧化二铌膜(4)，五氧化二铌膜(4)镀有二氧化硅膜(5)。3.据权利要求1所述的一种消影高透过率OGS用玻璃，其特征在于:所述基板(I)的前表面镀有五氧化二银膜(4),五氧化二银膜(4)镀有二氧化娃膜(5), 二氧化娃膜(5)镀有绝缘边框(2)，该绝缘边框(2)镀有ITO导电膜(3)，该基板(I)的后表面镀有五氧化二铌膜(4)，五氧化二铌膜(4)镀有二氧化硅膜(5)。4.据权利要求1所述的一种消影高透过率OGS用玻璃，其特征在于:所述基板(I)的前表面镀有五氧化二银膜(4),五氧化二银膜(4)镀有二氧化娃膜(5), 二氧化娃膜(5)镀有ITO导电膜(3)，该ITO导电膜(3)镀有绝缘边框(2)，该该基板I)的后表面镀有五氧化二铌膜(4)，五氧化二铌膜(4)镀有二氧化硅膜(5)。5.据权利要求2或3或4所述的一种消影高透过率OGS用玻璃，其特征在于:所述基板(I)的前表面镀有的功能层为消影功能层，后表面镀有的功能层为增透减反功能层。6.种消影高透过率OGS用 玻璃制造方法，其特征在于:该方法工艺分为三种工艺制作流程， 第一种工艺制作流程，绝缘边框(2)镀在基板(I)前表面的前表面的功能层和ITO膜层之前，为第一道工序；则前表面的镀膜制程全部采用低温镀膜； 第二种工艺制作流程，绝缘边框(2)镀在基板(I)前表面的功能层和ITO膜(3)之间，则功能层采用高温方式或者低温方式生产均可，ITO膜层(3)需要采用低温镀膜； 第三种工艺制作流程，绝缘边框(2)镀在基板(I)前表面前表面的功能层和ITO膜层之后，则镀膜制程完全可采取高温镀膜来完成。7.据权利要求6所述的消影高透过率OGS用玻璃制造方法，其特征在于，所述第一种工艺的具体流程如下: a、玻璃基板清洗； b、制作绝缘边框(2)绝缘边框图案，绝缘边框(2)边框在基板(I)前表面； C、带有绝...

【专利技术属性】
技术研发人员：李俊华，姜翠宁，李亮亮，
申请(专利权)人：深圳市正星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：